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龙图腾网恭喜全智芯(上海)技术有限公司申请的专利仿真模型及其生成方法、仿真方法、电子设备及存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119538811B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510095758.6，技术领域涉及：G06F30/3308；该发明授权仿真模型及其生成方法、仿真方法、电子设备及存储介质是由请求不公布姓名;请求不公布姓名设计研发完成，并于2025-01-21向国家知识产权局提交的专利申请。

本仿真模型及其生成方法、仿真方法、电子设备及存储介质在说明书摘要公布了：本公开的实施例涉及仿真模型及其生成方法、仿真方法、电子设备及存储介质。该方法包括：基于预定的全局工艺角的位置及全局工艺角各自的目标参数之间的相关性确定伪全局工艺角的位置，伪全局工艺角用于辅助界定仿真对象的电学特性分布范围；基于全局工艺角和伪全局工艺角各自位置处的目标参数的值分别调整与各个目标参数对应的工艺角模型参数，以使各个目标参数的仿真值分别与相应的目标参数的目标值一致；基于各个调整的工艺角模型参数确定仿真模型的模型参数，以生成仿真模型。本公开的技术方案能够提高MC仿真的精确性。

本发明授权仿真模型及其生成方法、仿真方法、电子设备及存储介质在权利要求书中公布了：1.一种仿真模型的生成方法，包括：基于预定的全局工艺角的位置以及所述全局工艺角各自的目标参数之间的相关性确定伪全局工艺角的位置，所述伪全局工艺角用于辅助界定仿真对象的电学特性的分布范围；基于所述全局工艺角和所述伪全局工艺角各自位置处的目标参数的值分别调整与各个所述目标参数对应的工艺角模型参数，以使得各个所述目标参数的仿真值分别与相应的所述目标参数的目标值一致；以及基于各个调整的工艺角模型参数确定所述仿真模型的模型参数，以生成所述仿真模型；其中所述预定的全局工艺角包括典型工艺角，所述确定伪全局工艺角的位置包括：指定各个所述伪全局工艺角各自的两个关联的目标参数之一的值；基于所述目标参数之一的值与所述典型工艺角的相应目标参数的值的差以及指定的相关性值，确定各个所述伪全局工艺角各自对应的两个关联的目标参数中的另一目标参数的值；以及分别将对应于所述两个关联的目标参数的值的位置确定为各个所述伪全局工艺角的位置。

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