恭喜晶芯成(北京)科技有限公司;合肥晶合集成电路股份有限公司黄望望获国家专利权
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龙图腾网恭喜晶芯成(北京)科技有限公司;合肥晶合集成电路股份有限公司申请的专利反应腔室的清洁方法及反应腔室获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119351989B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411931915.4，技术领域涉及：C23C16/44；该发明授权反应腔室的清洁方法及反应腔室是由黄望望;胡万春设计研发完成，并于2024-12-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本反应腔室的清洁方法及反应腔室在说明书摘要公布了：本申请实施例提供了一种反应腔室的清洁方法及反应腔室，所述清洁方法包括：对所述反应腔室进行第一清洁过程；其中，所述第一清洁过程产生冷凝于所述反应腔室的至少部分区域的清洁副产物；加热所述至少部分区域，以在针对所述反应腔室的第二清洁过程中，清洁所述至少部分区域的清洁副产物。所述反应腔室的清洁方法通过针对第一清洁过程中存在的清洁副产物残留进行二次清洁，在一定程度上能够改善CVD反应腔室内颗粒物污染的情况。
本发明授权反应腔室的清洁方法及反应腔室在权利要求书中公布了：1.一种反应腔室的清洁方法，其特征在于，所述反应腔室的清洁方法包括：对所述反应腔室进行第一清洁过程；所述第一清洁过程用于对化学气相沉积工艺过程中反应腔室的残留物进行清洁；其中，在所述第一清洁过程中，采用的清洁气体与所述残留物作用后产生有清洁副产物，所述清洁副产物冷凝并累积于所述反应腔室的至少部分区域；其中，所述至少部分区域的温度低于反应腔室的其他区域；加热所述至少部分区域，以在针对所述反应腔室的第二清洁过程中，清洁所述至少部分区域的清洁副产物。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人晶芯成(北京)科技有限公司;合肥晶合集成电路股份有限公司，其通讯地址为：100176 北京市大兴区北京经济技术开发区科创十三街29号院一区2号楼13层1302-C54；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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