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龙图腾网恭喜圆益IPS股份有限公司申请的专利感应耦合等离子体处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115312367B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-20发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111494169.3，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权感应耦合等离子体处理装置是由金禹贤;刘光钟;卢德熙;奇洞铉;金荣必;金正洙;韩昌勋;金大一;俞道亨设计研发完成，并于2021-12-08向国家知识产权局提交的专利申请。

本感应耦合等离子体处理装置在说明书摘要公布了：本发明公开一种感应耦合等离子体处理装置，包括：腔室主体，平面形状具有直角四边形形状，并且在上侧形成有开口部；窗口组件，包括覆盖所述开口部以与所述腔室主体一同形成处理空间的一个以上的窗口和支撑所述窗口的支撑架；基板支撑部，设置在所述腔室主体，并支撑直角四边形的基板；气体喷射部，向所述处理空间喷射气体；天线部，在所述窗口组件的上部中设置在与所述基板的直角四边形形状相对应的基准直角四边形区域，以在所述处理空间形成感应电场。所述天线部包括：4个角落天线组，与所述基准直角四边形区域的顶点相邻配置，以控制角落部分的等离子体密度；侧方天线组，与所述基准直角四边形区域的边及所述4个角落天线组间隔间距配置。

本发明授权感应耦合等离子体处理装置在权利要求书中公布了：1.一种感应耦合等离子体处理装置，包括：腔室主体100，平面形状具有直角四边形形状，并且在上侧形成有开口部；窗口组件200，包括一个以上的窗口210和支撑架220，所述一个以上的窗口210覆盖所述开口部以与所述腔室主体100一同形成处理空间S，所述支撑架220支撑所述窗口210；基板支撑部300，设置在所述腔室主体100，并支撑直角四边形的基板10；气体喷射部，向所述处理空间S喷射气体；天线部500，在所述窗口组件200的上部中设置在与所述基板10的直角四边形形状相对应的基准直角四边形区域，以在所述处理空间S形成感应电场；其中，所述天线部500包括：4个角落天线组700，与所述基准直角四边形区域的顶点相邻配置，以控制角落部分的等离子体密度；侧方天线组510，与所述基准直角四边形区域的边及所述4个角落天线组700间隔间距配置，从上侧俯视所述侧方天线组510时，在所述基板10的直角四边形中除了顶点以外的边中具有一个以上的直线部分，在与所述角落部分相向的部分中具有一个以上的侧方斜线部分，所述角落天线组700在与所述侧方天线组510相邻的部分中具有与所述侧方天线组510的所述侧方斜线部分相互平行的角落斜线部分，在所述角落斜线部分和所述侧方斜线部分中的电流方向相同。

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