恭喜华芯程(杭州)科技有限公司请求不公布姓名获国家专利权
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龙图腾网恭喜华芯程(杭州)科技有限公司申请的专利曲线掩膜版测试图形合集的生成方法、装置、介质获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119575772B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-23发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202510145091.6,技术领域涉及:G03F7/20;该发明授权曲线掩膜版测试图形合集的生成方法、装置、介质是由请求不公布姓名设计研发完成,并于2025-02-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本曲线掩膜版测试图形合集的生成方法、装置、介质在说明书摘要公布了:本申请提供曲线掩膜版测试图形合集的生成方法、装置、介质、程序产品及终端,通过获取曲线掩膜版及其量测路径数据,调整线宽生成第一测试图形;定位交点并构建局部切线,平移切线并执行图形移除操作生成第二测试图形;在交点周围提取边界点,基于交点与边界点构建参考图形,并通过布尔运算结合生成第三测试图形。最终,将三种测试图形合并,形成多样化的测试图形合集。解决了曲线掩膜版测试图形设计与验证的不足,显著提高了生成效率和精准度,减少了设计时间,降低了制造过程中的分辨率错误,从而提升了测试图形的质量和可靠性,适用于半导体制造、纳米技术及高精度光刻等领域,具有广泛应用前景。
本发明授权曲线掩膜版测试图形合集的生成方法、装置、介质在权利要求书中公布了:1.一种曲线掩膜版测试图形合集的生成方法,其特征在于,包括:获取曲线掩膜版及其对应的量测路径;沿所述量测路径的方向调整所述曲线掩膜版的线宽,以生成第一测试图形;定位所述曲线掩膜版和所述量测路径的交点,并基于所述交点构建所述曲线掩膜版的局部切线;通过所述局部切线对所述曲线掩膜版执行图形移除操作,以生成第二测试图形,包括:沿所述局部切线向所述曲线掩膜版内部平移一个或多个单位距离,以生成平移过程中与所述曲线掩膜版重叠的平移区域;基于所述平移区域,从所述曲线掩膜版中切除相应的重叠区域,以生成所述第二测试图形;以所述交点为中心,以预设规则在所述曲线掩膜版上下边缘处各提取一个边界点,并基于所述交点和所述边界点构建参考图形,包括:将所述交点和所述边界点的坐标代入圆方程中,求解由所述交点和所述边界点构成的参考圆形,并得到所述参考圆形的半径及圆心坐标;根据布尔运算,将所述曲线掩膜版与所述参考图形结合,以生成第三测试图形,包括:对所述参考圆形的半径增加减少一个或多个单位距离,以生成多个更新半径;基于所述更新半径和所述圆心坐标生成多个衍生参考圆形;对每个衍生参考图形与所述曲线掩膜版执行布尔运算,以生成多个第三测试图形;其中,对每个衍生参考图形与所述曲线掩膜版执行布尔运算的过程包括:对落于所述曲线掩膜版外部的圆形部分执行联合操作;对落于所述曲线掩膜版内部的圆形部分执行取反操作;将所述第一测试图形,第二测试图形和第三测试图形合并,以生成测试图形合集。
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