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龙图腾网恭喜华芯程(杭州)科技有限公司申请的专利基于多个光刻模型的光学临近效应修正方法、装置、介质及程序产品获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119322432B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411867039.3，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权基于多个光刻模型的光学临近效应修正方法、装置、介质及程序产品是由姚军;黄光遥设计研发完成，并于2024-12-18向国家知识产权局提交的专利申请。

本基于多个光刻模型的光学临近效应修正方法、装置、介质及程序产品在说明书摘要公布了：本发明提供基于多个光刻模型的光学临近效应修正方法、装置、介质及程序产品，所述方法包括：根据对当前光刻条件的分析结果判断前层薄膜叠层是否在不同区域存在差异；评估所述差异对当层光刻图形成像的影响，根据评估结果配置一或多种晶圆并分别进行曝光以采样建模数据；利用建模数据分别进行光刻模型校准；在进行光学临近修正之前，对输入版图的图形按照前层不同薄膜叠层区域图形以及不同类型图形进行分类并标记；在进行光学临近修正过程中，分别调用对应的光刻模型或子光刻模型对不同类别的图形进行模拟并修正。本发明极大提高了每一部分图形的光刻精度，并极大地提高了光学临近修正效应。

本发明授权基于多个光刻模型的光学临近效应修正方法、装置、介质及程序产品在权利要求书中公布了：1.一种基于多个光刻模型的光学临近效应修正方法，其特征在于，包括：根据对当前光刻条件的分析结果判断前层薄膜叠层是否在不同区域存在差异；评估所述差异对当层光刻图形成像的影响，根据评估结果配置一或多种晶圆并分别进行曝光以采样建模数据；所述根据对当前光刻条件的分析结果判断前层薄膜叠层是否在不同区域存在差异，其判断方式包括如下任一种或多种的组合：通过测量前层薄膜叠层在不同区域的光刻胶厚度，进而分析前层薄膜叠层是否存在厚度差异；通过成像仿真分析来评估前层薄膜叠层在不同区域的光强分布差异，进而分析前层薄膜叠层在不同区域是否存在差异；通过测量和分析前层薄膜叠层不同区域的光学常数，进而分析前层薄膜得层在不同区域是否存在差异；利用所述建模数据分别进行光刻模型校准，其包括：若相同晶圆上不同类型建模数据的模型拟合误差超过预设阈值，则分别设置数据权重并为各类型建模数据建立对应的子光刻模型；在进行光学临近修正之前，对输入版图的图形按照前层不同薄膜叠层区域图形以及不同类型图形进行分类并标记；在进行光学临近修正过程中，分别调用对应的光刻模型或子光刻模型对不同类别的图形进行模拟并修正；所述不同类型图形指版图上具有不同形状和特征的图形。

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