恭喜华芯程(杭州)科技有限公司余志堂获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网恭喜华芯程(杭州)科技有限公司申请的专利工艺窗口优化方法、装置、介质、程序产品及终端获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119312750B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411855058.4，技术领域涉及：G06F30/337；该发明授权工艺窗口优化方法、装置、介质、程序产品及终端是由余志堂设计研发完成，并于2024-12-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本工艺窗口优化方法、装置、介质、程序产品及终端在说明书摘要公布了：本申请提供工艺窗口优化方法、装置、介质、程序产品及终端，通过目标函数优化与数值规划求解方法，解决了弱点和坏点区域光强对比度低、工艺窗口有限及成品缺陷率高的问题。采用弱点和坏点区域光强对数斜率平方和作为优化目标，结合边段移动范围、边缘位置误差及相互影响因素，建立合理优化模型。同时引入稀疏矩阵、密矩阵等多种矩阵方法，提高了优化效率与精度，实现了掩模图形的精确优化，扩展了工艺窗口，降低了缺陷率，增强了工艺稳定性和适应性，显著提升生产效率与产品质量。
本发明授权工艺窗口优化方法、装置、介质、程序产品及终端在权利要求书中公布了：1.一种工艺窗口优化方法，其特征在于，包括：获取原始掩模图形；基于预设的光强对数斜率，在所述原始掩模图形中执行缺陷点位识别操作，以提取多个缺陷点位坐标；对每个缺陷点位坐标所在的掩模图形执行区域分区操作，以生成可优化区域和不可优化区域；其中，所述可优化区域中含有一个或多个可优化子区域；在每个所述可优化子区域中提取多个待优化边段，并根据多个待优化边段生成相互影响矩阵；基于与当前可优化子区域对应的线性约束条件和目标函数，对所述相互影响矩阵执行迭代优化操作，以生成修正后边段；使用修正后的边段替换原始掩模图形中相应位置的边段，以生成优化掩模图形。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人华芯程(杭州)科技有限公司，其通讯地址为：311100 浙江省杭州市余杭区良渚街道网周路99号1幢22层2208室；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号