东莞高伟光学电子有限公司谭尊幸获国家专利权
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龙图腾网获悉东莞高伟光学电子有限公司申请的专利真空吸附治具及加工设备获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN222896682U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-23发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202421906227.8,技术领域涉及:H01L21/683;该实用新型真空吸附治具及加工设备是由谭尊幸;陈德龙;于吉光设计研发完成,并于2024-08-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本真空吸附治具及加工设备在说明书摘要公布了:本申请涉及一种真空吸附治具及加工设备,该真空吸附治具包括:吸附平台,具有第一对接面,第一对接面上设有对接孔;管道组件,一端插接于吸附平台,与对接孔连通,另一端与驱动泵连接;以及载件,具有相对设置的吸附面和第二对接面,吸附面设有用于放置待加工模组的吸附区域,吸附区域内设有与驱动单元相对应的吸附孔,吸附孔沿载件的厚度方向贯穿载件;第二对接面抵接在第一对接面上时,吸附孔与对接孔连通。本申请技术方案有效解决了传统真空吸附治具在吸附固定待加工模组时,微粒会进入待加工模组的内部,造成待加工模组的电性不良,影响成品品质的技术问题。
本实用新型真空吸附治具及加工设备在权利要求书中公布了:1.一种真空吸附治具,用于吸附待加工模组,所述待加工模组包括位于所述待加工模组的周缘的驱动单元,其特征在于,所述真空吸附治具包括:吸附平台100,具有第一对接面101,所述第一对接面101上设有对接孔110;管道组件200,一端插接于所述吸附平台100,与所述对接孔110连通,另一端与驱动泵连接;以及载件300,具有相对设置的吸附面301和第二对接面302,所述吸附面301设有用于放置所述待加工模组的吸附区域310,所述吸附区域310内设有与所述驱动单元相对应的吸附孔320,所述吸附孔320沿所述载件300的厚度方向Z贯穿所述载件300;所述第二对接面302抵接在所述第一对接面101上时,所述吸附孔320与所述对接孔110连通。
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