恭喜ASML荷兰有限公司席庆坡获国家专利权
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龙图腾网恭喜ASML荷兰有限公司申请的专利用于多射束检查装置中的次级射束的对准的系统和方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113632196B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080024585.4，技术领域涉及：H01J37/05；该发明授权用于多射束检查装置中的次级射束的对准的系统和方法是由席庆坡;胡学让;刘学东;任伟明;陈仲玮设计研发完成，并于2020-03-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于多射束检查装置中的次级射束的对准的系统和方法在说明书摘要公布了：公开了一种包括可调射束分离器的多射束检查装置。可调射束分离器被配置为改变次级粒子射束的路径。可调射束分离器包括第一维恩过滤器和第二维恩过滤器。两个维恩过滤器都与初级光学轴线对准。第一维恩过滤器和第二维恩过滤器是分别经由第一激励输入和第二激励输入而独立可控的。可调射束分离器被配置为基于第一激励输入和第二激励输入，沿着初级光学轴线来移动可调射束分离器的有效弯曲点。
本发明授权用于多射束检查装置中的次级射束的对准的系统和方法在权利要求书中公布了：1.一种可调带电粒子射束分离器，被配置为在有效弯曲点处改变次级粒子射束的路径，所述可调带电粒子射束分离器包括：第一维恩过滤器，与初级光学轴线对准，其中所述第一维恩过滤器是经由第一激励输入而独立可控的；以及第二维恩过滤器，与所述初级光学轴线对准，其中所述第二维恩过滤器是经由第二激励输入而独立可控的，以及其中所述可调带电粒子射束分离器被配置为：基于次级投影系统相对于所述可调带电粒子射束分离器的对准特性，通过调整所述第一激励输入和所述第二激励输入，使得所述有效弯曲点能够移动。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人ASML荷兰有限公司，其通讯地址为：荷兰维德霍温；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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