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龙图腾网恭喜应用材料公司申请的专利用于较佳的晶片均匀性的不对称的注射获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113366623B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080011807.9，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权用于较佳的晶片均匀性的不对称的注射是由庄野贤一;维希瓦·库马尔·帕迪;克里斯托弗·S·奥尔森;卡尔蒂克·萨哈;汉瑟·劳;托宾·卡芙曼·奥斯本;雷内·乔治;劳拉·哈夫雷查克;埃里卡·汉森设计研发完成，并于2020-01-30向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于较佳的晶片均匀性的不对称的注射在说明书摘要公布了：一种用于处理基板的气体注射器包含：主体，所述主体具有能连接至气体源的入口，所述气体源被配置为当处理在设置于处理腔室的处理容积内的基板支撑件上的基板时，在第一方向上提供气流至所述入口；及气体注射通道，所述气体注射通道形成在所述主体中。所述气体注射通道与所述入口流体连通且被配置为将所述气流输送至所述处理腔室的入口。所述气体注射通道具有平行于第二方向和第三方向的第一内表面和第二内表面。所述第二方向和所述第三方向不与所述基板的中心相交，并朝向所述基板支撑件的第一边缘而与所述第一方向成一角度。

本发明授权用于较佳的晶片均匀性的不对称的注射在权利要求书中公布了：1.一种用于处理基板的气体注射器，包含：主体，所述主体具有能连接至气体源的入口，所述气体源被配置为当处理在基板支撑件上的基板时，在第一方向上提供气流至所述入口，所述基板支撑件设置于处理腔室的处理容积内，其中所述基板支撑件具有第一边缘和第二边缘，所述第二边缘在正交于所述第一方向的方向上与所述第一边缘相对；及气体注射通道，所述气体注射通道形成在所述主体中，其中所述气体注射通道与所述入口流体连通，所述气体注射通道被配置为输送所述气流至所述处理腔室的处理腔室入口，所述气体注射通道具有平行于第二方向的第一内表面和平行于第三方向的第二内表面，所述第一内表面和所述第二内表面形成在一个气体注射通道内，所述第一方向、所述第二方向及所述第三方向平行于第一平面，所述第二方向和所述第三方向不与所述基板的中心相交，并朝向所述基板支撑件的所述第二边缘而与所述第一方向成一角度；所述第二方向从所述第一方向朝向所述基板支撑件的所述第二边缘倾斜达15°至35°之间，以及所述第三方向大致上与所述基板支撑件的所述第二边缘相切。

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