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龙图腾网恭喜富士胶片电子材料美国有限公司申请的专利抛光组合物及其使用方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114456717B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210053475.1，技术领域涉及：C09G1/02；该发明授权抛光组合物及其使用方法是由A·P·列昂诺夫;A·米什拉设计研发完成，并于2018-03-27向国家知识产权局提交的专利申请。

本抛光组合物及其使用方法在说明书摘要公布了：本公开提供化学机械抛光组合物及用于以高移除速率抛光多晶硅膜的方法。所述组合物包括1磨料；2至少一种结构I的化合物；3至少一种结构II的化合物；及4水；其中，所述组合物不包括氢氧化四甲基铵或其盐。结构I及II中的变量n、R1‑R7、X、Y及Z1‑Z3在本专利说明书中进行定义。这些化学机械抛光组合物中的结构I与II的化合物的协同效应导致在抛光期间高的多晶硅膜材料移除速率。

本发明授权抛光组合物及其使用方法在权利要求书中公布了：1.一种化学机械抛光组合物，包含：1至少一种磨料；2至少一种结构I的化合物： 其中，所述结构I的化合物为选自于由单乙醇胺、二乙醇胺、1-氨基-2-丙醇、1-氨基-2-丁醇、1,3-二氨基-2-丙醇、3-氨基-1,2-丙二醇、3-氨基-1-丙醇、2-2-氨基乙氧基乙醇、2-氨基-3-甲基-1-丁醇及5-氨基-1-戊醇组成的组的氨基醇；或者，所述结构I的化合物为选自于由2,2-二甲基-1,3-丙二胺、1,3-二氨基戊烷及2-3-氨丙基胺乙醇所组成的组的二胺；3至少一种结构II的化合物： 其中：Z1及Z2各自独立地为-CR8-或-N-，其中，R8为H、NRb2、COOH、C1-C3烷基，每个Rb独立地为H或C1-C3烷基；或Z1及Z2一起形成与结构II中的5元环稠合的5-6元环；Z3为-C-或-N-；及R7为H、COOH、C1-C3烷基或NR92，其中，每个R9独立地为H或C1-C3烷基，其限制条件为当Z3为-N-时，R7被删除；4至少一种四烷基铵盐，所述至少一种四烷基铵盐与氢氧化四甲基铵的盐不同；及5水；其中，所述组合物具有至少10的pH，其中，所述组合物不包括氢氧化四甲基铵或其盐，且所述组合物具有至少100：1的多晶硅对氮化硅移除速率比率；其中，所述组合物不包括氧化剂和乙二胺。

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