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龙图腾网恭喜西北工业大学申请的专利一种聚合物-粉体共混体系的均匀性检测评价方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114923820B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210633282.3，技术领域涉及：G01N15/02；该发明授权一种聚合物-粉体共混体系的均匀性检测评价方法是由李子寓;刘振国;杨梦红;陈妍慧;黄维设计研发完成，并于2022-06-07向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种聚合物-粉体共混体系的均匀性检测评价方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种聚合物‑粉体共混体系的均匀性检测评价方法，涉及聚合物‑粉体共混体系均匀性评价领域，该方法利用聚合物‑粉体共混体系制备得到常相位角元件器结构的待测样品，利用阻抗测量测量待测样品在不同采样频率处的实测阻抗幅值得到待测样品的实测幅值频率曲线；根据幅值频率模型确定待测样品在各个采样频率处的理论阻抗幅值得到理论幅值频率曲线，计算待测样品的实测幅值频率曲线与理论幅值频率曲线之间的偏离参数并得到检测评价结果。该方法采用阻抗幅值随频率变化的波动情况表征聚合物‑粉体共混体系内颗粒分布均匀性状态，可为聚合物‑粉体共混体系的均匀性的检测评价提供参考依据，得到的检测评价结果客观性和准确性好。

本发明授权一种聚合物-粉体共混体系的均匀性检测评价方法在权利要求书中公布了：1.一种聚合物-粉体共混体系的均匀性检测评价方法，其特征在于，所述方法包括：制备待测样品，所述待测样品包括两个导电极板以及填充在两个导电极板之间的待检测评价均匀性的聚合物-粉体共混体系；利用阻抗测量设备连接所述待测样品的两个导电极板，并测量不同采样频率处的实测阻抗幅值得到所述待测样品的实测幅值频率曲线；根据幅值频率模型确定所述待测样品在各个采样频率处的理论阻抗幅值得到理论幅值频率曲线；计算所述待测样品的实测幅值频率曲线与理论幅值频率曲线之间的偏离参数，并基于所述待测样品的偏离参数得到检测评价结果，偏离参数越大、检测评价结果指示的所述待测样品内的聚合物-粉体共混体系的均匀性越差；所述根据幅值频率模型确定所述待测样品在各个采样频率处的理论阻抗幅值得到理论幅值频率曲线，包括：根据聚合物-粉体共混体系的等效电路构建带未知参数的幅值频率模型；对所述实测幅值频率曲线经过非线性回归确定所述幅值频率模型中的未知参数的取值，得到反映阻抗幅值与频率关系的幅值频率模型；将各个采样频率代入所述幅值频率模型中分别确定对应的理论阻抗幅值，得到理论幅值频率曲线；所述聚合物-粉体共混体系的等效电路包括：第四电阻和韦伯阻抗构成串联电路，所述串联电路与第三常相位角元件并联构成第三并联电路，第三电阻和第二常相位角元件并联构成第二并联电路，第二电阻、第三并联电路和第二并联电路串联后与第一常相位角元件并联构成第一并联电路，所述第一并联电路与第一电阻串联；所述聚合物-粉体共混体系的等效电路构建带未知参数的幅值频率模型为： 其中，Hf是与频率f相关的阻抗幅值，R1是所述第一电阻的阻抗，YQ1是所述第一常相位角元件的导纳，R2是所述第二电阻的阻抗，YQ2是所述第二常相位角元件的导纳，R3是所述第三电阻的阻抗，YQ3是所述第三常相位角元件的导纳，R4是所述第四电阻的阻抗，ZW是所述韦伯阻抗的阻抗值，其中，所述韦伯阻抗的阻抗值、各个电阻以及各个常相位角元件的导纳均为未知参数，且所述韦伯阻抗的阻抗值以及各个常相位角元件的导纳与频率相关。

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