恭喜中山大学李意获国家专利权
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龙图腾网恭喜中山大学申请的专利共轭微孔耐有机溶剂纳滤复合膜及其制备方法和应用获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119926191B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-13发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202510423345.6,技术领域涉及:B01D69/12;该发明授权共轭微孔耐有机溶剂纳滤复合膜及其制备方法和应用是由李意;薛铭;徐子萌设计研发完成,并于2025-04-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本共轭微孔耐有机溶剂纳滤复合膜及其制备方法和应用在说明书摘要公布了:本发明涉及分离膜技术领域,公开了一种共轭微孔耐有机溶剂纳滤复合膜及其制备方法和应用,所述纳滤复合膜包括基膜和复合在所述基膜的孔内和或表面的分离层;形成所述分离层的聚合物包括含有芳香环的重复结构单元,其中,部分重复结构单元的芳香环上连接有卤素取代基;以所述分离层中所含化学元素的总摩尔量为基准,卤素的摩尔含量为2‑26%;所述纳滤复合膜分离层的孔隙率为20‑65%。该纳滤复合膜具有优异的耐酸、耐碱性能,具有优异的非极性溶剂渗透性能,化学稳定性好。
本发明授权共轭微孔耐有机溶剂纳滤复合膜及其制备方法和应用在权利要求书中公布了:1.一种纳滤复合膜,其特征在于,所述纳滤复合膜包括基膜和复合在所述基膜的孔内和或表面的分离层;形成所述分离层的聚合物包括含有芳香环的重复结构单元,其中,部分重复结构单元的芳香环上连接有卤素取代基; 以所述分离层中所含化学元素的总摩尔量为基准,卤素的摩尔含量为2-26%; 所述纳滤复合膜的分离层的孔隙率为20-65%。
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