天合光能股份有限公司高纪凡获国家专利权
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龙图腾网获悉天合光能股份有限公司申请的专利转光复合膜及其制备方法和光伏组件获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117790609B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311781692.3，技术领域涉及：H10F77/42；该发明授权转光复合膜及其制备方法和光伏组件是由高纪凡;谈家彬;范喜燕;张舒设计研发完成，并于2023-12-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本转光复合膜及其制备方法和光伏组件在说明书摘要公布了：本申请提供一种转光复合膜及其制备方法和光伏组件，转光复合膜包括转光层以及位于转光层至少一侧的有机抗转移层。本申请通过设置有机抗转移层，抑制转光剂由转光层迁移析出，从而提高转光层的转光寿命，提高光伏组件的UV耐候性。
本发明授权转光复合膜及其制备方法和光伏组件在权利要求书中公布了：1.一种转光复合膜，其特征在于，所述转光复合膜包括转光层以及分别位于所述转光层两侧的有机抗转移层；所述有机抗转移层的厚度为20μm～100μm，所述有机抗转移层的材料包括聚甲基丙烯酸甲酯颗粒，所述聚甲基丙烯酸甲酯颗粒的直径为0.1μm～5μm，所述转光层包括基材层以及分散于所述基材层内的转光剂，各所述聚甲基丙烯酸甲酯颗粒之间的间隙小于所述转光剂的直径。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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