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龙图腾网获悉华南师范大学;深圳市国华光电科技有限公司申请的专利一种具有超疏水表面的微结构及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115784146B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211701884.4，技术领域涉及：B81C1/00；该发明授权一种具有超疏水表面的微结构及其制备方法是由唐彪;李新宇;林涛;者海峰;周国富设计研发完成，并于2022-12-26向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种具有超疏水表面的微结构及其制备方法在说明书摘要公布了：本申请涉及一种具有超疏水表面的微结构及其制备方法，所述制备方法包括：将基板表面进行预处理并干燥，在基板表面涂覆含氟聚合物并加热处理，得到具有含氟聚合物疏水涂层的基板上板，通过带有阵列图案的掩膜板将具有聚合物疏水涂层的基板照射处理，获得具有交错的亲疏水阵列基板，再涂布紫外胶聚合物，在基板表面获得凸起阵列下板，将上板与下板进行接触，并在上板和下板之间施加直流电压，将获得的下板进行紫外光固化以及脱模处理，获得具有固定形貌的微结构，将微结构表面蒸镀一层疏水含氟聚合物，从而获得具有超疏水表面的微结构。该制备方法无需昂贵的设备，工艺过程简单，成形结构形貌可控，结构具有高保真性且工艺流程稳定。

本发明授权一种具有超疏水表面的微结构及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种具有超疏水表面的微结构的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括： 步骤1：将基板表面进行预处理并干燥备用； 步骤2：将步骤1中获得的基板表面涂覆含氟聚合物，再进行加热处理，得到具有含氟聚合物疏水涂层的基板； 步骤3：通过带有阵列图案的掩膜板将步骤2中获得的具有聚合物疏水涂层的基板在紫外光中进行照射处理，获得具有交错的亲疏水阵列基板； 步骤4：将步骤3中获得的基板进行润湿，然后在所述交错的亲疏水阵列表面涂布一层紫外胶聚合物，从而在基板表面获得凸起阵列； 步骤5：以步骤2中的基板作为上板，步骤4中的基板作为下板，将所述上板与所述下板进行接触，并在所述上板和所述下板之间施加200v-800v的直流电压，所述下板中的凸起阵列在电场和牵引力的作用下向上流变成形； 步骤6：将步骤5中获得的下板进行紫外光固化以及脱模处理，获得具有固定形貌的微结构； 步骤7：将所述步骤6中的微结构表面蒸镀一层疏水含氟聚合物，从而获得具有超疏水表面的微结构。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人华南师范大学;深圳市国华光电科技有限公司，其通讯地址为：510006 广东省广州市番禺区外环西路378号华南师范大学华南先进光电子研究院；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。