东京毅力科创株式会社齐藤均获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利等离子体处理装置和等离子体处理方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116110770B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211354572.0，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权等离子体处理装置和等离子体处理方法是由齐藤均;佐佐木和男;植松治志设计研发完成，并于2022-11-01向国家知识产权局提交的专利申请。
本等离子体处理装置和等离子体处理方法在说明书摘要公布了：本发明提供能够不使用稀有气体而提高等离子体点火性的等离子体处理装置和等离子体处理方法。等离子体处理装置包括：处理容器；载置台；金属窗，其保持与处理容器电绝缘地形成处理容器的顶部，并且被接地；隔着金属窗与载置台相对的电感耦合天线，其保持与金属窗电绝缘地配置；和用于对等离子体处理进行控制的控制部，控制部能够执行：以第一电功率向载置台供给第一高频，在金属窗与载置台之间通过电容耦合使等离子体点火的第一控制；以第二电功率向电感耦合天线供给第二高频，经由金属窗通过电感耦合来维持等离子体的第二控制；和将第一高频的电功率改变为比第一电功率大的第三电功率，对被载置在载置台上的基片实施等离子体处理的第三控制。
本发明授权等离子体处理装置和等离子体处理方法在权利要求书中公布了：1.一种等离子体处理装置，其特征在于，包括： 处理容器，能够在该处理容器的内部利用等离子体对基片实施等离子体处理； 配置在所述处理容器的内部的载置台，其能够载置所述基片并且兼作下部电极； 金属窗，其保持与所述处理容器电绝缘地形成所述处理容器的顶部，并且被接地； 隔着所述金属窗与所述载置台相对的电感耦合天线，其保持与所述金属窗电绝缘地配置；和 用于对所述等离子体处理进行控制的控制部， 所述控制部能够执行： 以第一电功率向所述载置台供给第一高频，在所述金属窗与所述载置台之间通过电容耦合使所述等离子体点火的第一控制； 以第二电功率向所述电感耦合天线供给第二高频，经由所述金属窗通过电感耦合来维持所述等离子体的第二控制；和 将所述第一高频的电功率改变为比所述第一电功率大的第三电功率，对被载置在所述载置台上的所述基片实施所述等离子体处理的第三控制。
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