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龙图腾网获悉中国科学院上海光学精密机械研究所申请的专利光栅剪切干涉高精度投影物镜波像差检测方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115452331B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211190014.5，技术领域涉及：G01M11/02；该发明授权光栅剪切干涉高精度投影物镜波像差检测方法是由卢云君;李中梁;王向朝设计研发完成，并于2022-09-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本光栅剪切干涉高精度投影物镜波像差检测方法在说明书摘要公布了：光栅剪切干涉高精度投影物镜波像差检测方法，该方法采用的光栅剪切干涉仪系统包含：光学及照明系统、待测光学成像系统、物面衍射光栅版、像面衍射光栅版、二维光电传感器和计算处理单元。物面衍射光栅版和像面衍射光栅版分别置于待测光学成像系统的物面和像面。测量时，通过轴向扫描的方法，测量轴向两个及以上位置处的差分波前，并拟合得到轴向位置处x方向差分波前的Z2系数和y方向差分波前的Z3系数，利用Z2和Z3系数对轴向光栅位置线性拟合直接得到待测光学成像系统的Z5像散误差，消除了剪切干涉仪系统由于光栅离焦及位置变化引入的像散误差。该方法不需要制作额外的光栅，也不需要额外增加转台，既提高了待测光学成像系统的波像差测量精度，又不增加测量系统结构的复杂度。

本发明授权光栅剪切干涉高精度投影物镜波像差检测方法在权利要求书中公布了：1.光栅剪切干涉高精度投影物镜波像差检测方法，该方法采用的波像差测量装置包含：光源及照明系统8、物面衍射光栅版1、第一三维位移台2、像面衍射光栅版4、第二三维位移台5、二维光电传感器6和计算处理单元7，所述的光源及照明系统8输出空间非相干光，所述的物面衍射光栅版1固定在第一三维位移台2上，所述的像面衍射光栅版4固定在第二三维位移台5上，所述的物面衍射光栅版1上包含两组光栅线方向垂直的一维光栅，所述的像面衍射光栅版4上包含一组棋盘光栅或者两组光栅线方向垂直的一维光栅，所述的二维光电传感器6的输出端与计算处理单元7相连，建立xyz坐标系，z轴方向沿着剪切干涉仪的光轴方向，x轴沿着物面衍射光栅版1上第二光栅102的光栅线方向，y轴沿着物面衍射光栅版1上第一光栅101的光栅线方向，设第一三维位移台2和第二三维位移台5的运动轴分别为x轴、y轴和z轴，其特征在于该方法的步骤如下： 步骤1将待测光学成像系统3置于该波像差测量装置中，使光源及照明系统8位于待测光学成像系统3的物方，且像面衍射光栅版4位于待测光学成像系统3的像方，调整第一三维位移台2，使物面衍射光栅版1位于待测光学成像系统3的物面，调整第二三维位移台5，使像面衍射光栅版4位于待测光学成像系统3的像面；通过物面或像面光栅相移，测量得到待测光学成像系统3的波像差W，对W进行Zernike多项式拟合得到Z5项波像差，记Z5项误差为W1； 步骤2将第二三维位移台5的z向运动范围进行N等分，N＝2，作为扫描位置，记为Pi，其中i＝1，2，3…N；P1为起始高度位置； 步骤3移动第一三维位移台2，使所述的物面衍射光栅版1上光栅线沿y轴方向的第一光栅101移入待测光学成像系统3的物方视场点位置，移动第二三维位移台5，使所述的像面衍射光栅版4上的棋盘光栅或对应方向的一维光栅z向定位到P1位置； 步骤4通过物面或像面光栅相移，获取x轴方向的一系列剪切干涉图，测量得到x轴方向差分波前对进行Zernike拟合，提取Z2项系数c2i，其中，i＝1，2，3…N； 步骤5如果所述的第二三维位移台5当前的z向位置Pi为PN，则进入步骤6，否则所述的第二三维位移台5移动至下一个位置Pi+1，使Pi＝Pi+1，返回步骤4； 步骤6移动第一三维位移台2，使所述的物面衍射光栅版1上光栅线沿x轴方向的第二光栅102移入待测光学成像系统3的物方视场点位置；将第二三维位移台5的z向定位到P1位置； 步骤7通过物面或像面光栅相移，获取y轴方向的一系列剪切干涉图，求解得到y轴方向差分波前对进行Zernike拟合，提取Z3项系数c3i其中， i＝1，2，3…N； 步骤8如果所述的第二三维位移台5当前的z向位置Pi为PN，则进入步骤9，否则所述的第二三维位移台5移动至下一个位置Pi+1，使Pi＝Pi+1，返回步骤7； 步骤9将Z2系数c2i和Z3系数c3i分别与轴向位置Pi进行线性拟合，拟合得到c2为零的轴向位置PS和c3为零的轴向位置PT，由|PS-PT|得到与像散对应的两个焦点之间的距离ST，按照公式1计算得到待测光学成像系统3的Z5像差系数，并得到待测光学成像系统的Z5像差W2， 步骤10待测光学成像系统3的波像差测量结果修正为W–W1+W2。

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