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龙图腾网恭喜成都高真科技有限公司申请的专利非接触式晶圆台清洗装置、方法及其清洗检验装置、方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116213361B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111467132.1，技术领域涉及：B08B5/02；该发明授权非接触式晶圆台清洗装置、方法及其清洗检验装置、方法是由金成昱;梁贤石设计研发完成，并于2021-12-02向国家知识产权局提交的专利申请。

本非接触式晶圆台清洗装置、方法及其清洗检验装置、方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种非接触式晶圆台清洗装置、方法及其清洗检验装置、方法，清洗装置位于晶圆台正上方，清洗装置包括吹气喷嘴，以及围绕吹气喷嘴周向设置的遮挡罩，遮挡罩与吹气喷嘴在晶圆台上的投影位置位于晶圆在晶圆台上的投影位置内。本发明采用非接触方式来对晶圆台进行清洗，避免了对晶圆台的磨耗；清洗之后，无需要采用裸晶圆进行验证，采用本发明方案可以立即晶圆台进行清洁度的确认。

本发明授权非接触式晶圆台清洗装置、方法及其清洗检验装置、方法在权利要求书中公布了：1.非接触式晶圆台清洗检验装置，其特征在于，所述检验装置用于对采用非接触式晶圆台清洗方法进行清洗过的晶圆台进行清洁度检验； 所述非接触式晶圆台清洗方法采用一个非接触式晶圆台清洗装置； 所述清洗装置位于所述晶圆台正上方，所述清洗装置包括吹气喷嘴，以及围绕所述吹气喷嘴周向设置的遮挡罩，所述遮挡罩与所述吹气喷嘴在所述晶圆台上的投影位置位于晶圆在所述晶圆台上的投影位置内； 非接触式晶圆台清洗方法为：通过所述吹气喷嘴向所述晶圆台吹送速度恒定可控的运动气流，所述晶圆台上的污染粒在运动气流的作用下，由晶圆台中心向四周漂移，并离开所述晶圆台； 所述检验装置包括： 在吹气喷嘴侧壁上设置采样气量通道； 设置参考喷嘴，在所述参考喷嘴侧壁上设置参考气量通道，所述参考喷嘴正对的位置设置有无污染粒的参考工作台； 所述采样气量通道和所述参考气量通道连接于差压传感器的两端，所述差压传感器用于测量所述采样气量通道和所述参考气量通道中气体的压力差； 所述采样气量通道与所述参考气量通道镜像设置，所述吹气喷嘴与所述参考喷嘴镜像设置，且送往所述吹气喷嘴的气量速度和送往所述参考喷嘴的气量速度均相等，所述参考工作台与所述晶圆台的位置镜像设置； 其中，所述遮挡罩周向上呈现为环形凸槽，所述环形凸槽的凹面面向所述晶圆台；所述环形凸槽远离所述吹气喷嘴的外周形成所述遮挡罩的外沿面，所述外沿面与所述环形凸槽的内底面的夹角范围为90度-180度。

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