恭喜重庆达方电子有限公司;达方电子股份有限公司彭勋昆获国家专利权
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龙图腾网恭喜重庆达方电子有限公司;达方电子股份有限公司申请的专利具有减噪效果的按键与键盘获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115241007B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110443441.9，技术领域涉及：H01H13/7065；该发明授权具有减噪效果的按键与键盘是由彭勋昆;陈建彰设计研发完成，并于2021-04-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本具有减噪效果的按键与键盘在说明书摘要公布了：本发明公开一种具有减噪效果的按键与键盘。该按键包含有底板、键帽、薄膜电路板以及升降支撑机构。该键帽以可相对活动方式设置在该底板上。该薄膜电路板设置在该底板与该键帽之间。该薄膜电路板的一侧边区域突出设置阻挡件。该升降支撑机构承托该键帽使其相对该底板移动。该升降支撑机构包含交错结合的第一支撑件与第二支撑件。该第一支撑件与该第二支撑件的至少其中之一的底端在该键帽相对该底板下移时止抵于该阻挡件，用来避免或减缓该升降支撑机构与该底板的碰撞。本发明的按键与键盘可减少操作时产生的振动与异音，同时提升使用者的操作手感。
本发明授权具有减噪效果的按键与键盘在权利要求书中公布了：1.一种具有减噪效果的按键，其特征在于包含有： 底板； 键帽，以可相对活动的方式设置在该底板上； 薄膜电路板，设置在该底板与该键帽之间，该薄膜电路板的一侧边区域突出设置有阻挡件，该阻挡件的厚度小于该侧边区域的厚度；以及 升降支撑机构，承托该键帽使其相对该底板移动，该升降支撑机构包含交错结合的第一支撑件与第二支撑件，该第一支撑件与该第二支撑件的至少其中之一的底端在该键帽相对该底板下移时止抵于该阻挡件。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人重庆达方电子有限公司;达方电子股份有限公司，其通讯地址为：401520 重庆市合川区合川工业园区电子产业标准厂房1栋；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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