恭喜应用材料以色列公司Y·巴松获国家专利权
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龙图腾网恭喜应用材料以色列公司申请的专利与晶片有关的电弧危害的检测获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112444708B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-13发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010921369.1，技术领域涉及：G01R31/12；该发明授权与晶片有关的电弧危害的检测是由Y·巴松;S·I·纳卡什;I·莱维设计研发完成，并于2020-09-04向国家知识产权局提交的专利申请。
本与晶片有关的电弧危害的检测在说明书摘要公布了：一种用于检测与晶片有关的电弧危害的方法、非暂态计算机可读介质和检测系统。所述检测系统可包括测量单元、电极和处理单元。所述测量单元可被配置为当所述晶片可相对于所述电极移动时，以及当特定电场可形成在所述电极与所述晶片之间时，通过在测试时段期间测量所述电极的电参数来提供测量结果；其中所述特定电场引发所述晶片的部分地分离的导电元件的分离端部移动远离所述晶片。所述处理单元可被配置为基于所述测量结果来确定所述电弧危害的存在。
本发明授权与晶片有关的电弧危害的检测在权利要求书中公布了：1.一种用于检测与晶片有关的电弧危害的检测系统，所述检测系统包括： 电极； 晶片支撑单元，所述晶片支撑单元被配置为支撑所述晶片并在测试时段期间相对于所述电极移动所述晶片； 供应单元，所述供应单元电耦接到所述电极和所述晶片，并且被配置为维持在所述电极与所述晶片之间的特定电场； 测量单元，所述测量单元被配置为当所述晶片相对于所述电极移动时，以及当所述特定电场形成在所述电极与所述晶片之间时，通过在所述测试时段期间测量所述电极的电参数来提供测量结果，所述特定电场引发所述晶片的部分地分离的导电元件的分离端部移动远离所述晶片；以及 处理单元，所述处理单元被配置为基于所述测量结果来确定所述电弧危害的存在。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人应用材料以色列公司，其通讯地址为：以色列瑞哈佛特市；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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