恭喜ASML荷兰有限公司L·R·S·哈斯普斯劳格获国家专利权
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龙图腾网恭喜ASML荷兰有限公司申请的专利微反射镜阵列获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114402261B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-13发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202080058778.1,技术领域涉及:G03F7/20;该发明授权微反射镜阵列是由L·R·S·哈斯普斯劳格;V·罗切斯;G·布兰达尼·托里;N·潘迪;S·A·戈登设计研发完成,并于2020-08-05向国家知识产权局提交的专利申请。
本微反射镜阵列在说明书摘要公布了:一种微反射镜阵列包括:衬底;用于反射入射光的多个反射镜;以及针对多个反射镜中的每个反射镜20,用于使反射镜进行位移的至少一个压电致动器21,其中至少一个压电致动器连接到衬底。该微反射镜阵列还包括一个或多个支柱24,一个或多个支柱24将反射镜连接到至少一个压电致动器。还公开了一种形成这种微反射镜阵列的方法。微反射镜阵列可以用于可编程照射器中。可编程照射器可以用于光刻设备和或检查设备中。
本发明授权微反射镜阵列在权利要求书中公布了:1.一种微反射镜阵列,包括: 衬底; 多个反射镜,用于反射入射光; 至少一个压电致动器,针对所述多个反射镜中的每个反射镜,所述至少一个压电致动器用于使所述反射镜进行位移并且被连接到所述衬底;以及 一个或多个支柱,将所述反射镜连接到所述至少一个压电致动器, 并且针对所述多个反射镜中的每个反射镜,所述微反射镜阵列包括用于对来自所述反射镜的热进行扩散的热扩散器,所述热扩散器包括散热器和将所述散热器连接到所述反射镜的导热柱。
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