恭喜嘉善复旦研究院徐雯龙获国家专利权
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龙图腾网恭喜嘉善复旦研究院申请的专利多层电极连接结构、片上电容器和多层电极连接方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119767688B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510258824.7，技术领域涉及：H10D1/60；该发明授权多层电极连接结构、片上电容器和多层电极连接方法是由徐雯龙;朱宝;丁士进;张柏诚;吴洋洋;张立龙;余念文;张卫设计研发完成，并于2025-03-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本多层电极连接结构、片上电容器和多层电极连接方法在说明书摘要公布了：本发明涉及半导体器件领域，提供一种多层电极连接结构、片上电容器和多层电极连接方法，该多层电极连接结构，应用于片上电容器内部，包括：衬底，用于提供位于底层的电极层的附着表面；设有刻蚀槽的电极层，用于提供导电的第一区域和第二区域；N层电极层中相邻的刻蚀槽的轮廓在堆叠方向互不相交，N为大于2的正整数；电介质层，位于相邻的电极层之间，用于提供绝缘的电介质。该结构用于减少多层电极中的段差，以确保电容器的性能。
本发明授权多层电极连接结构、片上电容器和多层电极连接方法在权利要求书中公布了：1.一种多层电极连接结构，应用于片上电容器内部，其特征在于，包括： 衬底，用于提供位于底层的电极层的附着表面； 设有刻蚀槽的N层电极层，N为大于2的正整数；所述电极层被刻蚀槽分割为用于导电的第一区域和第二区域；沿堆叠方向，所述N层电极层包括奇数位第一电极层、偶数位第一电极层、奇数位第二电极层和偶数位第二电极层； 所述奇数位第一电极层设有奇数位第一电极层刻蚀槽，所述偶数位第一电极层设有偶数位第一电极层刻蚀槽；所述奇数位第一电极层刻蚀槽与偶数位第一电极层刻蚀槽在堆叠方向上的轮廓互不相交； 所述奇数位第二电极层设有奇数位第二电极层刻蚀槽，所述偶数位第二电极层设有偶数位第二电极层刻蚀槽；所述奇数位第二电极层刻蚀槽与偶数位第二电极层刻蚀槽在堆叠方向上的轮廓互不相交； 电介质层，位于相邻的电极层之间，用于提供绝缘的电介质。
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