恭喜济南大学王金萍获国家专利权
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龙图腾网恭喜济南大学申请的专利一种高荧光强度和高稳定性硫量子点制备工艺及其应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119662239B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411933297.7，技术领域涉及：C09K11/02；该发明授权一种高荧光强度和高稳定性硫量子点制备工艺及其应用是由王金萍;刘艳萍;刘善奎;郭文娟设计研发完成，并于2024-12-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种高荧光强度和高稳定性硫量子点制备工艺及其应用在说明书摘要公布了：本发明涉及硫量子点制备技术领域，具体公开一种高荧光强度和高稳定性硫量子点制备工艺及其应用。所述工艺包括如下步骤：（1）将硫粉加到碱液中搅拌均匀，然后加入单链DNA片段，然后在连续搅拌和加热保温条件下反应。（2）在上述步骤（1）得到的反应液中加入过氧化氢，然后在连续搅拌条件下继续反应。完成后进行透析，即得硫量子点分散液。本发明的上述工艺不仅简便高效，而且显著提高了硫量子点的荧光强度、稳定性和生物相容性，为硫量子点的合成提供了新的思路和技术手段。
本发明授权一种高荧光强度和高稳定性硫量子点制备工艺及其应用在权利要求书中公布了：1.一种高荧光强度和高稳定性硫量子点制备工艺，其特征在于，包括如下步骤： （1）将硫粉加到碱液中搅拌均匀，然后加入单链DNA片段，然后在连续搅拌和60~90℃的加热保温条件下反应12~24小时； （2）在上述步骤（1）得到的反应液中加入过氧化氢，然后在连续搅拌条件下继续反应4~12小时；完成后进行透析，即得硫量子点分散液； 所述硫粉、碱液中溶质、单链DNA片段的摩尔比为400~700：1400~1600：0.01~0.05； 所述单链DNA片段选自：PolyA11~PolyA50、PolyC11~PolyC50、PolyG11~PolyG50、PolyT11~PolyT50中的至少一种。
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