买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！

龙图腾网恭喜上海微电子装备(集团)股份有限公司申请的专利一种光刻机框架及光刻机获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN111381450B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201811642844.0，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权一种光刻机框架及光刻机是由张瑞平;杨玉杰设计研发完成，并于2018-12-29向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种光刻机框架及光刻机在说明书摘要公布了：本发明提供了一种光刻机框架及光刻机，光刻机框架包括测量支架、主基板、Y向干涉仪支架及连接臂，测量支架的下底面形成有一延伸部，延伸部上沿Y向相对的两个侧壁分别为第一侧壁和第二侧壁，测量支架的下底面上沿Y向位于延伸部的两侧的底面分别为第一下底面和第二下底面，主基板上开设有一凹槽，延伸部位于凹槽内，并且测量支架通过第一下底面和第二下底面与主基板连接，Y向干涉仪支架固定连接于测量支架一端，连接臂设置于主基板内，连接臂一端固定连接于Y向干涉仪支架，另一端固定连接于第一侧壁。测量支架和主基板T形嵌设连接，提高了干涉测量系统的测量精度，减少了震动的传递对曝光成像系统的影响，有效提高了光刻机整机系统的稳定性。

本发明授权一种光刻机框架及光刻机在权利要求书中公布了：1.一种光刻机框架，其特征在于，包括测量支架和主基板，所述测量支架的下底面的部分沿远离所述下底面的方向向外延伸形成一延伸部，所述测量支架的下底面上沿Y向位于所述延伸部的两侧的底面分别为第一下底面和第二下底面； 所述主基板的上端面开设有一与所述延伸部相匹配的凹槽，所述延伸部嵌设于所述凹槽内，并且所述测量支架通过所述第一下底面和所述第二下底面与所述主基板连接； 所述第一下底面包括两个相互间隔设置的用于与所述主基板连接的连接区域，所述第二下底面包括两个相互间隔设置的用于与所述主基板连接的连接区域，所述第一下底面的两个所述连接区域的区域中心的连线所在的直线与所述第二下底面的两个所述连接区域的区域中心的连线所在的直线之间相交呈T形分布，所述Y向为光刻机的扫描方向。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人上海微电子装备(集团)股份有限公司，其通讯地址为：201203 上海市浦东新区张东路1525号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。