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龙图腾网恭喜泉意光罩光电科技(济南)有限公司申请的专利一种芯片的制作方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114077153B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-20发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111408489.2，技术领域涉及：G03F1/00；该发明授权一种芯片的制作方法是由黃钲为;葛伟妮;李式中;李双双设计研发完成，并于2021-11-19向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种芯片的制作方法在说明书摘要公布了：本申请实施例公开了一种芯片的制作方法，该方法包括：提供一光罩；将所述光罩的第一表面划分为多个尺寸和形状均相同的预设区域；根据各个预设区域中的预设图形的数量，获取所述多个预设区域中各个预设区域的图形密度；根据所述预设区域的图形密度，得到修正区域，所述修正区域包括图形密度取值范围在第一预设值和第二预设值之间的至少一个预设区域，包括端点值；在所述修正区域选取多个测量点，根据所述多个测量点所在位置处的预设图形的线宽，对利用所述光罩制作芯片时的曝光剂量进行调整；根据调整后的曝光剂量，利用所述光罩制作所述芯片，能够有效改善芯片线宽的均匀性，从而有助于提高芯片的良率。

本发明授权一种芯片的制作方法在权利要求书中公布了：1.一种芯片的制作方法，其特征在于，包括： 提供一光罩，所述光罩第一表面具有多个预设图形； 将所述光罩第一表面划分为尺寸和形状均相同的多个预设区域； 根据各个预设区域中的预设图形的数量，获取所述多个预设区域中各个预设区域的图形密度； 根据所述多个预设区域中各个预设区域的图形密度，得到修正区域，包括：根据所述多个预设区域中各个预设区域的图形密度，得到所述光罩的图形密度曲线，其中，横坐标为所述图形密度，纵坐标为各个所述图形密度对应的预设区域个数；根据所述光罩的所述图形密度曲线，得到第一预设值和第二预设值，其中，所述第一预设值小于所述第二预设值，所述第一预设值和所述第二预设值分别位于所述图形密度曲线的最高点的两侧，并且所述第一预设值对应的图形密度值与所述图形密度曲线的最高点处对应的图形密度值的差值不大于10％，所述第二预设值对应的图形密度值与所述图形密度曲线的最高点处对应的图形密度值的差值不大于10％；根据所述第一预设值和所述第二预设值，得到所述修正区域，所述修正区域包括图形密度取值范围在第一预设值和第二预设值之间的至少一个预设区域，包括端点值； 在所述修正区域中选取多个测量点，所述多个测量点位于所述修正区域中的预设图形上，根据所述多个测量点所在位置处的预设图形的线宽，对利用所述光罩制作芯片时的曝光剂量进行调整； 根据调整后的曝光剂量，利用所述光罩制作芯片。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人泉意光罩光电科技(济南)有限公司，其通讯地址为：250101 山东省济南市高新区经十路7000号汉峪金融商务中心A4-(4)办公楼九层904室；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。