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龙图腾网获悉东京应化工业株式会社申请的专利抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114746807B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080082676.3，技术领域涉及：G03F7/004；该发明授权抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法是由染谷康夫;海保贵昭;阿出川穂设计研发完成，并于2020-11-27向国家知识产权局提交的专利申请。

本抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种抗蚀剂组合物，通过曝光产生酸、且对显影液的溶解性因酸的作用而变化。含有具有以通式a0‑1表示的结构单元a0的高分子化合物A1、以通式b1表示的化合物B1以及以通式d1表示的化合物D1。R为氢原子等；Va01为2价的连接基团；na01为1～2的整数；Ra01为具有氰基等的含内酯环式基；Yb01为2价的连接基团或单键；Lb01为‑C＝O‑O‑等；Rb01～Rb03为烷基；Rb04～Rb06为烷基等；nb04为0～4的整数；nb05～nb06为0～5的整数；X‑为反荷阴离子；Rd01为环式基等；Mm+为m价的有机阳离子。[化1]

本发明授权抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法在权利要求书中公布了：1.一种抗蚀剂组合物，通过曝光产生酸、且对显影液的溶解性因酸的作用而变化，其特征在于，含有： 基材成分A，对显影液的溶解性因酸的作用而变化； 产酸剂成分B，通过曝光产生酸； 酸扩散控制剂成分D， 所述基材成分A包含具有以下述通式a0-1表示的结构单元a0的高分子化合物A1， 所述产酸剂成分B包含以下述通式b1表示的化合物B1， 所述酸扩散控制剂成分D包含以下述通式d1表示的化合物D1， [化1] 式中，R表示氢原子、碳数为1～5的烷基或碳数为1～5的卤代烷基，Va01表示2价的连接基团，na01为1～2的整数，Ra01表示具有从卤素原子、羧基、酰基、硝基以及氰基构成的组中选择的至少1个取代基的含内酯环式基， [化2] 式中，Yb01表示2价的连接基团或单键，Lb01表示-C＝O-O-、-O-C＝O-、-O-或-O-C＝O-Lb011-，Lb011表示碳数为1～3的亚烷基，Rb01～Rb03分别独立地表示烷基，Rb01～Rb03中的2个以上可以相互键合而形成环结构，Rb04～Rb06分别独立地表示烷基、烷氧基、卤素原子、卤代烷基、羟基、羰基或硝基，nb04表示0～4的整数，nb05～nb06分别独立地表示0～5的整数，X-表示反荷阴离子， [化3] 式中，Rd01表示可具有取代基的环式基、可具有取代基的链状烷基、或可具有取代基的链状烯基，其中，与式中的硫原子邻接的碳原子上未键合有氟原子，m为1以上的整数，且Mm+分别独立地为m价的有机阳离子。

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