东亚合成株式会社岩濑贤明获国家专利权
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龙图腾网获悉东亚合成株式会社申请的专利无机物质层层叠用底涂层剂组合物、其固化物及其制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116897195B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202280013135.4，技术领域涉及：C09D183/04；该发明授权无机物质层层叠用底涂层剂组合物、其固化物及其制造方法是由岩濑贤明;古田尚正设计研发完成，并于2022-01-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本无机物质层层叠用底涂层剂组合物、其固化物及其制造方法在说明书摘要公布了：一种无机物质层层叠用底涂层剂组合物，为了通过干式成膜法将无机物质层层叠于树脂基材而涂布在树脂基材上，其特征为包含由下述式1表示的聚硅氧烷化合物、以及自由基聚合引发剂和或阳离子聚合引发剂。
本发明授权无机物质层层叠用底涂层剂组合物、其固化物及其制造方法在权利要求书中公布了：1.一种无机物质层层叠用底涂层剂组合物，为了通过干式成膜法将无机物质层层叠于树脂基材而涂布在树脂基材上，其中，该组合物包含由下述式1表示的聚硅氧烷化合物、以及自由基聚合引发剂和或阳离子聚合引发剂， [化学式1] 在式1中，R1、R2及R3分别独立地表示碳数1～10的烷基、碳数7～10的芳烷基、碳数6～10的芳基、碳数2～8的不饱和烃基、或者具有甲基丙烯酰基、环氧基或氧杂环丁基的一价有机基团，所述烷基、芳烷基、芳基、不饱和烃基、甲基丙烯酰基、环氧基及氧杂环丁基任选地被选自由卤原子、羟基、烷氧基、芳氧基、芳烷基及氧基组成的组中的至少一种取代，R1、R2及R3中，至少一个是具有甲基丙烯酰基、环氧基或者氧杂环丁基的一价有机基团，R1、R2及R3彼此相同或不同，在式1中，v、w、x及y分别表示v、w、x及y在总量中的比例，w表示1以下的正数，v及y分别独立地表示0或者小于1的正数，x是小于1的正数， 满足0.3≤{wv+w+x+y}≤1.0、且0≤{xv+w+x+y}＜0.69。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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