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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司申请的专利纹路识别模组及显示装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116391211B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180003181.1，技术领域涉及：G06V40/13；该发明授权纹路识别模组及显示装置是由海晓泉;董学;袁广才;陈小川;王迎姿设计研发完成，并于2021-10-29向国家知识产权局提交的专利申请。

本纹路识别模组及显示装置在说明书摘要公布了：本公开提供的纹路识别模组及显示装置，包括纹路识别基板，纹路识别基板包括衬底基板，以及位于衬底基板一侧的阵列排布的多个光敏器件；光线约束层，与纹路识别基板具有多个光敏器件的一侧直接接触设置，光线约束层包括至少一层光阑层、以及位于光阑层远离纹路识别基板一侧的微透镜层；其中，光阑层具有呈阵列排布的透光孔，透光孔在衬底基板上的正投影位于光敏器件在衬底基板上的正投影内；微透镜层包括隔开设置的多个微透镜，微透镜在衬底基板上的正投影覆盖且大于透光孔在衬底基板上的正投影。

本发明授权纹路识别模组及显示装置在权利要求书中公布了：1.一种纹路识别模组，其中，包括： 纹路识别基板，所述纹路识别基板包括衬底基板，以及位于所述衬底基板一侧的阵列排布的多个光敏器件； 光线约束层，与所述纹路识别基板具有所述多个光敏器件的一侧直接接触设置，所述光线约束层包括至少一层光阑层、以及位于所述光阑层远离所述纹路识别基板一侧的微透镜层；其中，所述光阑层具有呈阵列排布的透光孔，所述透光孔在所述衬底基板上的正投影位于所述光敏器件在所述衬底基板上的正投影内；所述微透镜层包括隔开设置的多个微透镜，所述微透镜在所述衬底基板上的正投影覆盖且大于所述透光孔在所述衬底基板上的正投影； 其中，所述光线约束层包括至少两层所述光阑层，各所述光阑层中的所述透光孔一一对应且在所述衬底基板上的正投影至少部分重合； 其中，在远离所述纹路识别基板的方向上，所述光阑层包括依次设置的第一光阑层、第二光阑层和第三光阑层；其中， 所述第一光阑层包括阵列排布的第一透光孔，所述第二光阑层包括阵列排布的第二透光孔，所述第三光阑层包括阵列排布的第三透光孔； 所述第二透光孔在所述衬底基板上的正投影覆盖且大于所述第一透光孔在所述衬底基板上的正投影，且所述第二透光孔在所述衬底基板上的正投影位于所述第三透光孔在所述衬底基板上的正投影内； 其中，所述光线约束层还包括与所述光阑层交替设置的支撑层； 所述第一透光孔的孔径D1满足以下关系式： D1＝[D22hs+hs]*[nxn-1]*tanθ； 其中，D为所述微透镜的口径，hs为所述微透镜的高度，n为所述微透镜的折射率，nx为所述支撑层的折射率，θ为收光角。

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