季华实验室刘宏获国家专利权
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龙图腾网获悉季华实验室申请的专利一种磺酸化GO分子印迹聚合物复合膜及其制备方法、应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119926183B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-15发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510427169.3，技术领域涉及：B01D67/00；该发明授权一种磺酸化GO分子印迹聚合物复合膜及其制备方法、应用是由刘宏;丘戈;张欣桐;沈若尧;徐平设计研发完成，并于2025-04-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种磺酸化GO分子印迹聚合物复合膜及其制备方法、应用在说明书摘要公布了：本申请涉及生物化工技术领域，主要涉及一种磺酸化GO分子印迹聚合物复合膜及其制备方法、应用。其中，磺酸化GO分子印迹聚合物复合膜的制备方法包括以下步骤：将磺酸化氧化石墨烯分散于第一溶剂中，加入分子印迹聚合物分散后，再加入PVDF搅拌，再加入致孔剂，得到铸膜液；将铸膜液刮膜，经过相转换得到磺酸化GO分子印迹聚合物复合膜。本申请通过分子印迹聚合物、磺酸化氧化石墨烯、PVDF以及致孔剂制备铸膜液，经过刮膜并进行相转化后，能够制得综合性能良好的复合膜，对目标提取物的膜分离效果较好，识别性能好，能够提高定向过滤效果并有助于实现反式阿魏酸大规模分离纯化。
本发明授权一种磺酸化GO分子印迹聚合物复合膜及其制备方法、应用在权利要求书中公布了：1.一种磺酸化GO分子印迹聚合物复合膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤： 将磺酸化氧化石墨烯分散于第一溶剂中，加入分子印迹聚合物分散后，再加入PVDF搅拌，再加入致孔剂，得到铸膜液； 将所述铸膜液刮膜，经过相转换得到磺酸化GO分子印迹聚合物复合膜； 所述磺酸化氧化石墨烯和分子印迹聚合物的质量比为0.9:0.15-0.225； 所述分子印迹聚合物和PVDF的质量比为0.15-0.225:12-18； 所述分子印迹聚合物的制备方法包括以下步骤： 将模板分子溶解于第二溶剂中； 再加入甲基丙烯酸和丙烯酰胺混合，4℃静置后取上清，再加入交联剂和偶氮二异丁腈，通入氮气后密封，加热至反应温度进行搅拌反应后，分离固体得到聚合材料； 将所述聚合材料洗去模板分子，再经过洗涤后真空干燥，得到所述分子印迹聚合物； 所述模板分子为反式阿魏酸。
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