格科微电子(上海)有限公司赵立新获国家专利权
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龙图腾网获悉格科微电子(上海)有限公司申请的专利光学指纹器件中形成红外截止滤光膜的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113270430B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-22发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010105625.X，技术领域涉及：H10F39/12；该发明授权光学指纹器件中形成红外截止滤光膜的方法是由赵立新;夏欢设计研发完成，并于2020-02-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本光学指纹器件中形成红外截止滤光膜的方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种光学指纹器件中形成红外截止滤光膜的方法，通过治具覆盖对应于图像传感器的焊盘区的部分，在对应于图像传感器的感光区的部分形成红外截止滤光膜，实现了红外截止滤光膜避开图像传感器的焊盘区的目的，以免影响焊盘区的电学连接性能，由于治具可以反复利用，节省了光刻步骤所需的工艺时间和材料成本，提高了生产效率，增加了产能，降低了制造成本。
本发明授权光学指纹器件中形成红外截止滤光膜的方法在权利要求书中公布了：1.一种光学指纹器件中形成红外截止滤光膜的方法，其特征在于，包括如下步骤： 提供形成有若干图像传感器的第一晶圆，所述图像传感器包括焊盘区和感光区，在所述第一晶圆上设置由第二晶圆形成的挡光结构，在所述挡光结构上设置透光层； 提供治具，通过磁性结构使得所述治具与所述第一晶圆、第二晶圆或透光层紧密贴合，所述治具覆盖所述第一晶圆、第二晶圆或透光层对应于图像传感器的焊盘区的部分，在所述第一晶圆、第二晶圆或透光层对应于图像传感器的感光区的部分形成红外截止滤光膜，在形成红外截止滤光膜后，移除所述磁性结构以移除所述治具。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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