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龙图腾网获悉大连理工大学申请的专利一种稳定腔室流场提高腔室洁净度的旋涂腔室结构获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119793832B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510165583.1，技术领域涉及：B05C15/00；该发明授权一种稳定腔室流场提高腔室洁净度的旋涂腔室结构是由闫英;张宏福;周平;万佳齐;方子铿设计研发完成，并于2025-02-14向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种稳定腔室流场提高腔室洁净度的旋涂腔室结构在说明书摘要公布了：本发明属于旋涂机的技术领域，公开一种稳定腔室流场提高腔室洁净度的旋涂腔室结构。由上至下排布的同步罩模块、气压调节模块和旋涂转盘模块为同心结构；旋涂转盘模块与气压调节模块之间留有旋涂液流出的流道，旋涂转盘模块与同步罩模块在旋涂时同步转速。旋涂前，在气压调节模块气道处连接气泵，用气流将旋涂腔室内的杂质带离基板表面，提高腔室洁净度。旋涂过程，从同步罩模块进气孔中通入过饱和气体，气体经过圆柱形腔室，从出气孔通入旋涂腔室，改善旋涂腔室内的气氛环境，提高蒸发均匀性，提高膜厚均匀性。在旋涂过程中同步罩模块与旋涂模块同步旋转，同步罩模块的梯形扰流板可改善旋涂腔室内的气流速度，使旋涂腔室内气体流速更均匀，保证膜厚均匀性。

本发明授权一种稳定腔室流场提高腔室洁净度的旋涂腔室结构在权利要求书中公布了：1.一种稳定腔室流场提高腔室洁净度的旋涂腔室结构，其特征在于，该旋涂腔室结构包括同步罩模块（6）、气压调节模块（7）和旋涂转盘模块（8）；由上至下排布的同步罩模块（6）、气压调节模块（7）和旋涂转盘模块（8）为同心结构；旋涂转盘模块（8）与气压调节模块（7）之间留有旋涂液流出的流道，旋涂转盘模块（8）与同步罩模块（6）在旋涂时同步转速； 旋涂转盘模块（8）的上表面设计有圆形基片承载台（2），圆形基片承载台（2）的面积大于待涂布基片的面积；旋涂转盘模块（8）除圆形基片承载台（2）外的区域为转盘边缘区域，圆形基片承载台（2）与转盘边缘区域由斜面过渡连接，圆形基片承载台（2）高于转盘边缘区域；圆形基片承载台（2）中心留有抽真空孔（9），通过抽真空吸附圆形基片承载台（2）； 气压调节模块（7）为环形结构，其内壁面从上至下由平面过渡为斜面，平面与同步罩模块（6）配合，斜面具有防止旋涂液在旋涂过程中飞溅的作用，旋涂液被甩到斜面后沿着斜面从流道流出；气压调节模块（7）外表面设计有长方体突起，长方体突起外表面设计有气压调节入口，气压调节入口的中心高度与旋涂基板上表面同高；气压调节模块（7）开有气道，气道由两部分组成，第一部分为等矩形截面部分，第二部分为线性增大矩形截面部分，二者由外向内构成完整气道； 同步罩模块（6）可沿垂直方向上下移动，同步罩模块（6）上方开有进气孔，从进气孔通入气体进入同步罩模块（6）；同步罩模块（6）的内部为空腔；同步罩模块（6）下表面开有环形均匀分布的出气孔，出气孔与空腔相连，气体从进气孔经过空腔，从出气孔吹气到达旋涂转盘模块（8）上方； 所述同步罩模块（6）下表面有梯形的扰流板（5），扰流板（5）之间夹角可在60°-90°范围间调节，同步罩模块（6）下表面存在扰流板（5）的位置没有出气孔（4），梯形扰流板上没有出气孔（4）。

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