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申请/专利权人:TA仪器-沃特世有限责任公司
申请日:2017-11-20
公开(公告)日:2019-07-19
公开(公告)号:CN110036285A
专利技术分类:..不包括燃烧或催化氧化作用的溶解、吸收或化学反应[2006.01]
专利摘要:本公开整体涉及热分析,该热分析将热能直接施加到样品。
专利权项:1.一种用于热分析的装置,包括:i天平;ii贮器,所述贮器具有内部表面和外部表面,其中所述内部表面或所述外部表面中的至少一者是反射的;iii电磁辐射源,所述电磁辐射源能够将电磁辐射递送到所述贮器;和iv样品束,所述样品束具有远侧端部和近侧端部,其中所述近侧端部连接到所述天平,并且所述远侧端部延伸到所述贮器中,所述远侧端部具有热电偶件并适于保持样品。
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