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一种匀光装置、光匀化设备及匀光方法专利

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申请/专利权人:光越科技(深圳)有限公司

申请日:2019-06-12

公开(公告)日:2019-09-20

公开(公告)号:CN110253136A

专利技术分类:...通过光学元件装置的,例如透镜,反射镜,棱镜[2014.01]

专利摘要:本发明涉及匀化技术领域,公开了一种匀光装置、光匀化设备及匀光方法。本发明包括第一匀光模组和第二匀光模组,入射光能够依次经过所述第一匀光模组后分为第一光和第二光,第二光和第三光经过第二匀光模组后会分成第四光、第五光、第六光和第七光,使得入射光的能量由较为汇聚的状态变为能量分布较为平均的状态。

专利权项:1.一种匀光装置,其特征在于,包括第一匀光模组和第二匀光模组,所述第一匀光模组和所述第二匀光模组均能使射入的光被分为相互垂直的两束偏振光,所述第二匀光模组位于所述第一匀光模组的下游,入射光能够依次经过所述第一匀光模组和第二匀光模组后射出。

百度查询: 光越科技(深圳)有限公司 一种匀光装置、光匀化设备及匀光方法

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