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申请/专利权人：株式会社LG化学
申请日：2019-12-03
公开（公告）日：2021-07-23
公开（公告）号：CN113164059A
专利技术分类：
专利摘要：公开了一种过敏诊断芯片以及制造过敏诊断芯片的方法。根据本发明，提供一种制造过敏诊断芯片的方法，该方法包括：涂层部分形成步骤，在该步骤产生低于抽吸单元内的正常压力的负压力，以允许上板内含有抗原的溶液向下移动，从而在膜上形成多个线状的涂层部分，所述抗原被吸附至所述线状的涂层部分。
专利权项：1.一种制造过敏诊断芯片的方法，所述方法包括以下步骤：制备步骤，所述制备步骤制备具有容纳含有抗原的溶液的空间的上板、设置在所述上板下方的抽吸单元、以及设置在所述上板下方并安装在所述抽吸单元上的下板；膜设置步骤，所述膜设置步骤在所述下板的顶表面上设置膜；以及涂层部分形成步骤，所述涂层部分形成步骤产生低于所述抽吸单元内的正常压力的负压力，以允许所述上板内的含有抗原的溶液向下移动，从而在所述膜上形成线状的多个涂层部分，所述抗原被吸附至所述多个涂层部分。
百度查询： 株式会社LG化学 过敏诊断芯片及过敏诊断芯片的制造方法
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