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申请/专利权人：福建华佳彩有限公司
摘要：本发明公开了一种改善SourceLine暗线的方法，包括如下步骤：S1：采用光罩或者沉膜方式，使用物理气象成膜PVD和化学气象成膜CVD分别对金属和无机化合物进行成膜，实现良好的成膜效果，通过成膜，曝光显影，蚀刻，剝膜的制程完成TFT制作；S2：在两层金属的重叠处，增加BC层或者PE层中下层金属画素Vcom金属走线宽度；S3：将Vcom中的宽度从W1加宽至W2，降低画素的RCloading，使得BC层或者PE层中金属线上的光阻不会因为Vcom在金属两侧。本发明在两层金属的重叠处，增加BC层或者PE层中下层金属画素Vcom金属走线宽度，使得BC层或者PE层中金属线上的光阻不会因为Vcom在金属两侧，Vcom金属的在线光阻也不会变薄，进而避免GI绝缘层出现破孔的情况，提升面板良率，降低生产成本。
主权项：1.一种改善SourceLine暗线的方法，其特征在于：包括如下步骤：S1：采用光罩或者沉膜方式，使用物理气象成膜PVD和化学气象成膜CVD分别对金属和无机化合物进行成膜，实现良好的成膜效果，通过成膜，曝光显影，蚀刻，剝膜的制程完成TFT制作；S2：在两层金属的重叠处，增加BC层或者PE层中下层金属画素Vcom金属走线宽度；S3：将Vcom中的宽度从W1加宽至W2，降低画素的RCloading，使得BC层或者PE层中金属线上的光阻不会因为Vcom在金属两侧。
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百度查询： 福建华佳彩有限公司 一种改善Source Line暗线的方法
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