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AlCrSiN/AlCrN/AlCrON/AlCrN多层纳米复合涂层的制备工艺 

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申请/专利权人:天津职业技术师范大学(中国职业培训指导教师进修中心)

摘要:本发明公开了一种AlCrSiNAlCrNAlCrONAlCrN多层纳米复合涂层的制备工艺,属于复合涂层制备技术领域。该工艺采用电弧离子镀膜技术镀膜,靶材选取金属Cr靶、AlCr靶、AlCrSi靶。镀膜前先通入氩气辉光放电清洗,随后开启Cr靶对基体表面进行离子轰击清洗,然后沉积CrN过渡层,最后通入氮气和氧气作为反应气体,交替开启AlCrSi靶和AlCr靶,依次往复沉积AlCrSiN层、AlCrN层、AlCrON层和AlCrN层。本发明制备的多层纳米复合涂层工艺简单,涂层组织结构致密、涂层与基体间结合力强,具有较高的硬度和强度,良好的耐磨损性能。

主权项:1.一种AlCrSiNAlCrNAlCrONAlCrN多层纳米复合涂层的制备工艺,其特征在于:该工艺是采用电弧离子镀膜技术先在基体上沉积CrN过渡层,再在CrN过渡层上依次往复沉积AlCrSiN层、AlCrN层、AlCrON层和AlCrN层,从而获得所述AlCrSiNAlCrNAlCrONAlCrN多层纳米复合涂层;该工艺中,靶材选择纯金属Cr靶、AlCr合金靶和AlCrSi合金靶,靶材纯度均为99.9wt.%;沉积各层时,弧电流均设置为60~100A;该工艺具体包括如下步骤:(1)将预处理后的基体放入镀膜室中央转架上,真空室气压抽至3.0×10-3Pa以下;(2)先对基体进行辉光放电清洗,然后在基体表面沉积一层厚度100~300nm的CrN过渡层以提高工作层与基体之间的结合力;(3)沉积多层复合涂层:最先开启AlCrSi合金靶,通入氩气和氮气,沉积AlCrSiN层;然后仅开启AlCr靶,通入氩气和氮气,沉积AlCrN层;再通入氧气,沉积AlCrON层;最后关闭氧气阀,只通入氩气和氮气,沉积AlCrN层;其中:沉积AlCrSiN层时,设置脉冲偏压-70~-120V,占空比60%~90%,通入氩气和氮气保持沉积压强为0.8~1.3Pa;沉积AlCrN层时,设置脉冲偏压-80~-100V,占空比60%~90%,通入氩气和氮气使沉积压强调节至1.5~3Pa;沉积AlCrON层时,设置脉冲偏压-80~-100V,占空比60%~90%,通入氩气、氧气和氮气使沉积压强保持为2~3Pa;沉积AlCrSiN涂层和AlCrN涂层时,通入氩气的流量为50sccm,通入氮气的流量为600sccm,总流量650sccm;沉积AlCrON涂层时,通入氩气流量为50sccm,氮气流量为600sccm,氧气流量为20sccm,总流量670sccm;(4)多次重复步骤(3)的过程,根据所需涂层的总厚度设置涂层的不同调制周期和沉积时间,获得所述AlCrSiNAlCrNAlCrONAlCrN多层纳米复合涂层;所述基体为金属或硬质合金,所制备的AlCrSiNAlCrNAlCrONAlCrN多层纳米复合涂层是由AlCrSiN层、AlCrN层、AlCrON层和AlCrN层依次叠加为周期,涂层调制周期为50-800nm,周期数≥4,AlCrSiN层、AlCrN层、AlCrON层和AlCrN层的调制比为3:1:1:1,沉积涂层总厚度控制为3μm。

全文数据:

权利要求:

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