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申请/专利权人：季华实验室
申请日：2022-09-08
公开（公告）日：2022-10-11
公开（公告）号：CN115157666A
主分类号：B29C64/20
分类号：B29C64/20;B29C64/277;B29C64/255;B29C64/124;B29C64/393;B29C64/245;B28B1/00;B28B17/00;B33Y30/00;B33Y10/00;B33Y50/02
优先权：
专利状态码：失效-发明专利申请公布后的驳回
法律状态：2023.08.11#发明专利申请公布后的驳回;2022.10.28#实质审查的生效;2022.10.11#公开
摘要：本发明公开了一种基于消逝波的双光路3D打印方法及装置，涉及3D打印领域，该装置包括：垂直进给运动系统；成形平台，所述成形平台与所述垂直进给运动系统可拆卸连接；半封闭料槽，所述半封闭料槽设置于所述成形平台下方，所述半封闭料槽底部设置有透光底板；垂直入射光源控制系统，所述垂直入射光源控制系统设置于所述半封闭料槽下方；全反射光源控制系统，所述全反射光源控制系统设置于所述半封闭料槽下方。本发明通过引入全反射光源控制系统在透光底板和成形材料的界面处生成消逝波，抑制界面处成形材料发生固化，降低界面分离力，实现连续3D打印，提高效率。
主权项：1.一种基于消逝波的双光路3D打印装置，其特征在于，所述基于消逝波的双光路3D打印装置包括：垂直进给运动系统；成形平台，所述成形平台与所述垂直进给运动系统可拆卸连接；半封闭料槽，所述半封闭料槽设置于所述成形平台下方，所述半封闭料槽底部设置有透光底板；所述透光底板为楔形，所述透光底板的斜面背离所述半封闭料槽设置；垂直入射光源控制系统，所述垂直入射光源控制系统设置于所述半封闭料槽下方，所述垂直入射光源控制系统发出的第一光束经所述透光底板折射后垂直入射所述半封闭料槽的槽底；全反射光源控制系统，所述全反射光源控制系统设置于所述半封闭料槽下方，所述全反射光源控制系统发出的第二光束入射所述透光底板中实现全反射，以在所述半封闭料槽的槽底形成消逝波。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 季华实验室 基于消逝波的双光路3D打印方法及装置
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