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申请/专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日：2023-02-13
公开（公告）日：2023-08-04
公开（公告）号：CN115793292B
专利技术分类：.对强度、相位、偏振或颜色的控制（G02F1/29，G02F1/35优先）[2006.01]
专利摘要：本公开实施例提供一种光场调控器件以及光场调控方法，光场调控器件包括：发光器件，发光器件用于提供光线；光栅阵列层，光栅阵列层位于发光器件上方，包括：多个光栅单元，光线透过光栅单元出射至外界，形成出射光线；相位控制层，嵌入于光栅阵列层底部，用于调节不同光栅单元的温度以调制出射光线的出射角度。本公开实施例至少有利于提高光场调控器件的可靠性。
专利权项：1.一种光场调控器件，其特征在于，包括：发光器件，所述发光器件用于提供光线；光栅阵列层，所述光栅阵列层位于所述发光器件上方，包括：多个光栅单元，所述光线透过所述光栅单元出射至外界，形成出射光线；光栅单元包括透光部以及至少一个光栅结构，所述光栅结构中的形状为楔形；在沿所述透光部指向所述光栅结构的方向上，所述透光部的宽度为10μm~30μm，所述光栅结构的宽度为20μm~40μm；相位控制层，嵌入于所述光栅阵列层底部，用于调节不同所述光栅单元的温度以调制所述出射光线的出射角度，所述相位控制层用于调节至少两个所述光栅单元的温度，以改变至少两个所述光栅单元的折射率，以使通过两个所述光栅单元出射的所述出射光线之间产生相位差，改变所述出射光线的出射角度，且所述相位控制层用于调节每一所述光栅单元的温度以在透过相邻的两个所述光栅单元的所述出射光线之间赋予相同的相位差；所述相位控制层包括：多个温控单元，每一所述温控单元与一所述光栅单元正对，被配置为：调节每一所述光栅单元的温度以使相邻的两个光栅单元的温度之间具有温度差，且所述光场调控器件基于所述温度差调制所述出射光线的相位。
百度查询： 长鑫存储技术有限公司 光场调控器件及光场调控方法
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