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申请/专利权人：昆山捷纳电子材料有限公司
申请日：2021-08-31
公开（公告）日：2024-01-16
公开（公告）号：CN113716568B
主分类号：C01B33/021
分类号：C01B33/021;C09G1/02
优先权：
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.01.16#授权;2021.12.17#实质审查的生效;2021.11.30#公开
摘要：本发明公开了一种蠕虫形氧化硅磨粒及其制备方法和应用；所述蠕虫形氧化硅磨粒的制备方法分为三步，包括制备球形氧化硅种子、诱导球形氧化硅种子自组装制备蠕虫形氧化硅颗粒、活性硅酸进一步生长使蠕虫形颗粒表面更加致密，连接部分更加牢固。与传统球形氧化硅磨粒相比，本发明蠕虫形氧化硅磨粒具有高的尺寸纵横比、提供的摩擦系数更高，对手机氧化锆陶瓷盖板进行抛光，可有效地提高材料去除率，并降低氧化锆陶瓷盖板的表面粗糙度。
主权项：1.一种蠕虫形氧化硅磨粒的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：S01：晶种的制备：将L-赖氨酸溶于去离子水中，加入正硅酸乙酯，恒温水浴搅拌下反应12h；逐滴滴加正硅酸乙酯；滴加完毕继续恒温水浴搅拌下反应24小时，得到固含量为6.0-8.0wt.％、粒径为10～20nm的球形氧化硅晶种溶液；S02：蠕虫形氧化硅粒子的制备：取步骤S01得到的球形氧化硅晶种溶液,搅拌条件下添加到含用L-赖氨酸和CaCl2的去离水中，加入正硅酸乙酯，恒温水浴搅拌下反应12h，得到蠕虫形氧化硅粒子溶液；其中，L-赖氨酸和CaCl2的质量比为2.5～5：1；氧化硅晶种溶液与L-赖氨酸的质量比为125：1；加入的正硅酸乙酯与氧化硅晶种溶液的质量比为0.35：1；S03：活性硅酸对蠕虫形氧化硅粒子的生长加固：将步骤S02得到的蠕虫形氧化硅粒子溶液加热至沸腾，充分搅拌下，逐渐加入固含量为2.0-2.4％的活性硅酸溶液；在反应过程中，通过控制硅酸溶液的滴加速率和水的蒸发速率，使液位保持恒定；同时，添加1wt.％氢氧化钠溶液，以确保反应体系的pH为9.0-10；停止添加完硅酸溶液后，溶液进一步反应1小时，冷却得到蠕虫形氧化硅磨粒。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 昆山捷纳电子材料有限公司 一种蠕虫形氧化硅磨粒及其制备方法和应用
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