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申请/专利权人：拓荆科技(上海)有限公司
摘要：本发明提供了一种开腔机构、一种用于半导体加工的腔室、一种对正方法，以及一种计算机可读存储介质。所述开腔机构包括机构本体、第一螺栓、第二螺栓、第一连接件、第二连接件及旋转结构。所述机构本体包括沿第一方向延伸的第一卡槽以及沿第二方向延伸的第二卡槽。所述第一连接件包括第一卡条以及用于连接腔室本体的第一连接结构。所述第一卡条嵌于所述第一卡槽，并根据所述第一螺栓的旋入量，确定其在所述第一卡槽中的位置。所述第二连接件包括第二卡条以及用于连接腔室上盖的第二连接结构。所述第二卡条嵌于所述第二卡槽，并根据所述第二螺栓的旋入量，确定其在所述第二卡槽中的位置。
主权项：1.一种开腔机构，其特征在于，包括：机构本体，包括沿第一方向延伸的第一卡槽，以及沿第二方向延伸的第二卡槽；第一螺栓，至少位于所述第一卡槽沿所述第一方向的一端；第二螺栓，至少位于所述第二卡槽沿所述第二方向的一端；第一连接件，包括第一卡条，以及用于连接腔室本体的第一连接结构，其中，所述第一卡条嵌于所述第一卡槽，并根据所述第一螺栓的旋入量，确定其在所述第一卡槽中的位置；第二连接件，包括第二卡条，以及用于连接腔室上盖的第二连接结构，其中，所述第二卡条嵌于所述第二卡槽，并根据所述第二螺栓的旋入量，确定其在所述第二卡槽中的位置；以及旋转结构，位于所述第一连接结构和或所述第二连接结构，以打开和或关闭所述腔室上盖。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 拓荆科技(上海)有限公司 开腔机构、腔室及腔室上盖的对正方法
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