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【发明授权】研磨设备_库尔米尔系统有限公司_202080041117.8 

申请/专利权人:库尔米尔系统有限公司

申请日:2020-04-30

公开(公告)日:2024-04-09

公开(公告)号:CN113993625B

主分类号:B02B3/04

分类号:B02B3/04;B02B7/00

优先权:["20190502 GB 19062074","20190502 GB 19062082","20190502 GB 19062090","20190502 GB 19062116"]

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.04.09#授权;2022.05.24#实质审查的生效;2022.01.28#公开

摘要:一种研磨设备1,包括滚筒2、围绕滚筒2的圆周表面的至少一部分的可移动研磨表面4以及围绕滚筒2安装的多个处理腔室5。每个处理腔室5具有上游面53和下游面54,上游面53和下游面54界定面向滚筒2的开口侧,使得研磨面4形成处理腔室5的壁。每个处理腔室5的下游面53基本上与滚筒2的径向平面R对准。

主权项:1.一种研磨设备,包括滚筒、围绕所述滚筒的圆周表面的至少一部分的可移动研磨表面以及围绕所述滚筒安装的一个或更多个处理腔室,每个处理腔室具有基本上彼此平行的上游面和下游面,所述上游面和下游面界定面向所述滚筒的开口侧,使得所述研磨表面形成所述处理腔室的壁,其中,所述下游面是在使用中对象流将冲击抵靠的处理腔室的碾磨面,并且与所述研磨表面间隔开以提供间隙,所述间隙提供次要出口,通过所述次要出口能够排出研磨掉的材料,其特征在于,所述处理腔室的下游面与所述滚筒的径向平面邻近并且平行于所述滚筒的径向平面,使得所述下游面基本上垂直于所述研磨表面的面对部分,并且所述径向平面与所述下游面之间的距离小于所述径向平面与所述上游面之间的距离。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 库尔米尔系统有限公司 研磨设备

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