申请/专利权人：科磊股份有限公司

申请日：2015-11-24

公开（公告）日：2024-04-23

公开（公告）号：CN112698551B

主分类号：G03F7/20

分类号：G03F7/20;G03F9/00;G01N21/47

优先权：["20141125 US 62/083,891","20150106 US 62/100,384"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.23#授权;2021.05.11#实质审查的生效;2021.04.23#公开

摘要：本申请实施例涉及分析及利用景观。本发明提供导出计量度量对配方参数的部分连续相依性、分析所述导出的相依性、根据所述分析来确定计量配方，及根据所述确定的配方来进行计量测量的方法。所述相依性可以景观例如敏感度景观的形式来进行分析，其中以分析方式、以数字方式或以实验方式检测具有低敏感度的区域，及或具有低或零不准确度的点或轮廓，且用于配置测量、硬件及目标的参数，以实现高测量准确度。工艺变化是就其对所述敏感度景观的效应进行分析，且这些效应用于进一步特性化所述工艺变化，以优化所述测量且使所述计量对于不准确度源更稳健，且相对于晶片上的不同目标及可用测量条件更灵活。

主权项：1.一种光学计量方法，其包括：测量在计量工具的光瞳平面处包括至少正负一阶衍射的衍射信号，所述信号从包括至少两个单元的目标导出，每一单元具有含相反设计的偏移的至少两个周期结构，及使用在每一单元处相对于彼此旋转180°的光瞳像素处测量的相反阶数的信号强度之间的差，从所述至少两个单元的所述经测量的衍射信号，计算所述目标的叠加，其中将所述叠加计算为其中表示所述光瞳像素，f0指示所述经设计的偏移，且其中D1及D2指示对应于所述相反设计的偏移在相对于彼此旋转180°的光瞳像素处测量的相反阶数的信号强度之间的所述差；及确定至少一个保真度度量，其中所述确定至少一个保真度度量包括：从光瞳像素群组之间的经计算得到的叠加的变化确定至少一个保真度度量，其中根据与所述计量工具的光学系统中的预期干扰源有关的指定长度尺度来选择所述群组的大小。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 科磊股份有限公司 分析及利用景观

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