申请/专利权人：信越化学工业株式会社

申请日：2021-06-10

公开（公告）日：2024-04-23

公开（公告）号：CN113805434B

主分类号：G03F7/004

分类号：G03F7/004;G03F7/11

优先权：["20200612 JP 2020-102117"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.23#授权;2022.01.04#实质审查的生效;2021.12.17#公开

摘要：本发明涉及抗蚀剂下层膜材料、图案形成方法、以及抗蚀剂下层膜形成方法。本发明提供一种抗蚀剂下层膜材料，是多层抗蚀剂法中使用的抗蚀剂下层膜材料，含有：A下列通式1表示的化合物；及B有机溶剂。式中，X各自独立地为下列通式2表示的1价有机基团。W含有m个下式3表示的独立的部分结构。m、n为1～10的整数。式中，虚线表示原子键。Z表示芳香族基团。A为单键、或‑O‑CH2p‑。k为1～5的整数。p为1至10的整数。式中，虚线表示原子键。R01为氢原子或碳数1～10的一价有机基团。

主权项：1.一种抗蚀剂下层膜材料，是多层抗蚀剂法中使用的抗蚀剂下层膜材料，含有：A下列通式1表示的化合物中的一种或二种以上；及B有机溶剂； 式中，X各自独立地为下列通式2表示的1价有机基团；W为碳数2～60的n价有机基团，且含有m个下列通式3表示的各自独立的部分结构；m、n为1～10的整数； 式中，虚线表示原子键；Z表示碳数6～20的k+1价芳香族基团；A为单键、或-O-CH2p-；k为1～5的整数；p为1至10的整数； 式中，虚线表示原子键；R01为氢原子或碳数1～10的一价有机基团。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 信越化学工业株式会社 抗蚀剂下层膜材料、图案形成方法、以及抗蚀剂下层膜形成方法

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