申请/专利权人：三星显示有限公司;东友精细化工有限公司

申请日：2021-12-03

公开（公告）日：2024-04-23

公开（公告）号：CN114686237B

主分类号：C09K13/06

分类号：C09K13/06;C23F1/30;C23F1/44;C23F1/02;H10K59/12

优先权：["20201228 KR 10-2020-0185187"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.23#授权;2022.07.19#实质审查的生效;2022.07.01#公开

摘要：一种用于含银薄膜的蚀刻组合物，所述蚀刻组合物包括无机酸化合物、磺酸化合物、有机酸化合物、硝酸盐、金属氧化剂、氨基酸化合物以及水。

主权项：1.一种用于含银薄膜的蚀刻组合物，其中，所述蚀刻组合物包括：1wt％至13wt％的无机酸化合物、0.1wt％至7wt％的磺酸化合物、30wt％至55wt％的除了所述磺酸化合物之外的其它有机酸化合物、1wt％至17wt％的硝酸盐、0.01wt％至0.09wt％的金属氧化剂、0.1wt％至7wt％的氨基酸化合物以及作为所述蚀刻组合物的剩余部分的水，其中，所述硝酸盐包括硝酸钙。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 三星显示有限公司;东友精细化工有限公司 用于含银薄膜的蚀刻组合物

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