申请/专利权人：维特株式会社;精密半导体技术株式会社

申请日：2022-10-07

公开（公告）日：2024-04-26

公开（公告）号：CN117941046A

主分类号：H01L21/66

分类号：H01L21/66;H01L21/67;H01L21/683

优先权：["20211012 KR 10-2021-0134695","20220506 KR 10-2022-0055983"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.05.14#实质审查的生效;2024.04.26#公开

摘要：公开能够在半导体工艺或显示器工艺中轻易地诊断设备的性能的能够大面积测量的监测设备。所述监测设备包括保护层、排列于所述保护层内部的空间的基板及排列于所述基板上的至少一个电子元件。其中，所述电子元件具有至少一个传感器，所述监测设备利用所述传感器测量位于所述监测设备的外部的被诊断体的温度、倾斜度、光、振动、电压、电流、电力、压力及所述被诊断体和其他元件之间的距离中至少一个来诊断所述被诊断体，所述基板形成有阴刻结构物或阳刻结构物，所述阴刻结果物内填充有具有不同于所述基板的特性的物质或所述阳刻结构物由具有不同于所述基板的特性的物质形成。

主权项：1.一种监测设备，其特征在于，包括：保护层；基板，排列于所述保护层内部的空间；及至少一个电子元件，排列于所述基板上，所述电子元件具有至少一个传感器，所述监测设备利用所述传感器测量位于所述监测设备的外部的被诊断体的温度、倾斜度、光、振动、电压、电流、电力、压力及所述被诊断体和其他元件之间的距离中至少一个来诊断所述被诊断体，所述基板形成有阴刻结构物或阳刻结构物，所述阴刻结果物内填充有具有与所述基板不同的特性的物质，或者所述阳刻结构物由具有与所述基板不同的特性的物质形成。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 维特株式会社;精密半导体技术株式会社 能够大面积测量的监测设备

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