申请/专利权人：ASML荷兰有限公司

申请日：2022-08-16

公开（公告）日：2024-04-26

公开（公告）号：CN117940955A

主分类号：G06T5/80

分类号：G06T5/80;G06T5/10

优先权：["20210914 EP 21196655.1","20211122 EP 21209476.7"]

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.04.26#公开

摘要：公开一种量测方法和相关联的装置。所述方法包括：获得第一图像，所述第一图像受到用于获取所述图像的光学系统的一个或更多个非等晕像差的影响；和通过执行以下各项中的一项或两项以针对所述一个或更多个非等晕像差的影响来非迭代地校正所述第一图像：在场空间中对所述第一图像的场非等晕校正操作，所述场空间对应于所述光学系统的场平面；和在光瞳空间中对所述第一图像的光瞳非等晕校正操作，所述光瞳空间对应于所述光学系统的光瞳平面。所述一个或更多个非等晕像差包括能够被描述为与对象变形和或光瞳变形组合的卷积的一类非等晕像差。

主权项：1.一种量测方法，包括：获得第一图像，所述第一图像受到用于获取所述图像的光学系统的一个或更多个非等晕像差的影响；以及通过执行以下各项中的一项或两项以针对至少所述一个或更多个非等晕像差的影响来非迭代地校正所述第一图像：在场空间中对所述第一图像的场非等晕校正操作，所述场空间对应于所述光学系统的场平面；和在光瞳空间中对所述第一图像的光瞳非等晕校正操作，所述光瞳空间对应于所述光学系统的光瞳平面；其中，所述一个或更多个非等晕像差包括能够被描述为与对象变形和或光瞳变形组合的卷积的一类非等晕像差。

全文数据：

权利要求：

百度查询： ASML荷兰有限公司 量测方法和装置

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD