申请/专利权人:三星电子株式会社
申请日:2023-10-25
公开(公告)日:2024-04-26
公开(公告)号:CN117930592A
主分类号:G03F7/20
分类号:G03F7/20;H01L21/67
优先权:["20221026 KR 10-2022-0138928"]
专利状态码:在审-公开
法律状态:2024.04.26#公开
摘要:一种基板处理装置包括:在曝光腔室中的台,曝光腔室被配置为对半导体基板执行曝光工艺;引导器件,包括在第一水平方向上可滑动地移动的第一水平驱动体和在第一水平驱动体上并具有沟槽的导轨,导轨在第二水平方向上延伸;连接到引导器件的定位器件,该定位器件包括滑块、第二水平驱动体和基板台,滑块配置为沿着沟槽在第二水平方向上可滑动地移动,第二水平驱动体连接或固定到滑块,基板台在第二水平驱动体上并被配置为支撑半导体基板;以及在导轨和基板台之间的阻挡构件,以阻挡异物流入到基板台上。
主权项:1.一种基板处理装置,包括:在曝光腔室中的台,所述曝光腔室被配置为对半导体基板执行曝光工艺;引导器件,包括在所述台上在第一水平方向上可滑动地移动的第一水平驱动体和在所述第一水平驱动体上并具有沟槽的导轨,所述导轨在垂直于所述第一水平方向的第二水平方向上延伸;定位器件,连接到所述引导器件以与所述引导器件一起可移动,所述定位器件包括滑块、第二水平驱动体和基板台,所述滑块配置为沿着所述导轨的所述沟槽在所述第二水平方向上可滑动地移动,所述第二水平驱动体连接或固定到所述滑块以与所述滑块一起可移动,所述基板台在所述第二水平驱动体上并被配置为支撑所述半导体基板;以及阻挡构件,在所述导轨和所述基板台之间以阻挡异物流入到所述基板台上,所述阻挡构件包括垂直挡板和水平挡板,所述垂直挡板在所述基板台的一侧在垂直方向上延伸以覆盖所述基板台的侧壁,所述水平挡板从所述基板台的所述一侧在所述第二水平方向上延伸以垂直重叠所述导轨的所述沟槽。
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