申请/专利权人：苏州山河光电科技有限公司

申请日：2023-09-28

公开（公告）日：2024-04-26

公开（公告）号：CN117930400A

主分类号：G02B3/00

分类号：G02B3/00;G02B1/00;G02B27/00;G06F30/20

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.05.14#实质审查的生效;2024.04.26#公开

摘要：本发明揭示了一种超表面的设计方法及装置，方法包括：获取样本集合和光场集合；使用概率代理模型拟合基元分布与光场分布之间的近似分布函数；对近似分布函数使用采集函数，计算待观测基元分布，其中，采集函数将目标光场分布作为优化目标；更新样本集合和光场集合并循环上述步骤，直到达终止条件，根据近似分布函数和目标光场分布确定目标基元分布；然后根据目标基元分布设计超表面。该方法通过不断迭代，选择新的合适的候选点，逐渐提高目标光场分布对应的目标基元分布的准确程度，最终得到目标基元分布的最优解，且避免在不可行的区域进行不必要的探索，所以设计成本低、设计速度快且精度高，更好地满足超表面的设计需求。

主权项：1.一种超表面的设计方法，所述超表面包括多个基元，其特征在于，所述设计方法包括如下步骤：步骤S10：获取样本集合、以及与所述样本集合中每个样本对应的光场分布的光场集合，其中，所述样本集合的每个样本对应一组基元分布；步骤S20：根据所述样本集合和所述光场集合，使用概率代理模型拟合基元分布与光场分布之间的近似分布函数，所述近似分布函数包括每种基元分布对应光场分布的正态分布；步骤S30：对所述近似分布函数使用采集函数，计算待观测基元分布，其中，所述采集函数将目标光场分布作为优化目标；步骤S40：判断是否到达终止条件；若未到达所述终止条件，计算与所述待观测基元分布对应的光场分布，并将所述待观测基元分布和对应的光场分布分别合并入对应的所述样本集合和所述光场集合，得到更新的样本集合和光场集合，并循环所述步骤S20～步骤S40；若到达所述终止条件，则根据所述近似分布函数和所述目标光场分布确定目标基元分布；步骤S50：根据所述目标基元分布设计超表面。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 苏州山河光电科技有限公司 超表面的设计方法及装置

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