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【发明公布】一种提高电路板铜箔均匀度的铜箔沉积装置_中山国昌荣电子有限公司_202410266019.4 

申请/专利权人:中山国昌荣电子有限公司

申请日:2024-03-08

公开(公告)日:2024-04-26

公开(公告)号:CN117926376A

主分类号:C25D17/02

分类号:C25D17/02;H05K3/18;C25D21/04;C25D21/14;C25D3/38;C25D7/00

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.05.14#实质审查的生效;2024.04.26#公开

摘要:本发明涉及印刷电路板制作技术领域,具体涉及一种提高电路板铜箔均匀度的铜箔沉积装置,包括电解槽、出液管、进液管、循环泵,出液管和进液管联通电解槽,进液管包括依次联通的第一管、第二管、第三管。第一管联通电解槽,第三管联通循环泵。第二管的截面尺寸大于第一管和第三管的直径。还包括储气腔,储气腔设置在第二管的上侧,储气腔联通第二管,储气腔的顶部设有放气阀。本发明利用截面积较大的第二管,减缓了电解液的流速,使得电解液中的气泡更容易从电解液中溢出,从而减少了电解液中的气泡数量,降低了气泡对印刷电路板质量的影响,在印刷电路板制作技术领域具有良好的应用前景。

主权项:1.一种提高电路板铜箔均匀度的铜箔沉积装置,包括电解槽、出液管、进液管、循环泵,所述出液管和所述进液管联通所述电解槽,其特征在于,所述进液管包括依次联通的第一管、第二管、第三管,所述第一管联通所述电解槽,所述第三管联通所述循环泵,所述第二管的截面尺寸大于所述第一管和所述第三管的直径,还包括储气腔,所述储气腔设置在所述第二管的上侧,所述储气腔联通所述第二管,所述储气腔的顶部设有放气阀。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 中山国昌荣电子有限公司 一种提高电路板铜箔均匀度的铜箔沉积装置

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