申请/专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方技术开发有限公司

申请日：2023-11-03

公开（公告）日：2024-04-26

公开（公告）号：CN117926175A

主分类号：C23C14/04

分类号：C23C14/04;C23C14/24;H10K71/16

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.05.14#实质审查的生效;2024.04.26#公开

摘要：本公开提供一种掩膜板及掩膜板的制备方法，属于显示技术领域，其可解决现有的掩膜板在进行蒸镀工艺制备发光器件时，容易出现蒸镀阴影，影响蒸镀效果，降低显示面板的显示效果的问题。本公开的掩膜板包括：掩膜框、位于掩膜框上且沿背离掩膜框方向依次设置的第一掩膜层和第二掩膜层；第一掩膜层设置有第一开孔，第二掩膜层设置有第二开孔；第一开孔和第二开孔的中心对齐，且第一开孔的面积大于第二开孔的面积。

主权项：1.一种掩膜板，其特征在于，所述掩膜板包括：掩膜框、位于所述掩膜框上且沿背离所述掩膜框方向依次设置的第一掩膜层和第二掩膜层；所述第一掩膜层设置有第一开孔，所述第二掩膜层设置有第二开孔；所述第一开孔和所述第二开孔的中心对齐，且所述第一开孔的面积大于所述第二开孔的面积。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方技术开发有限公司 掩膜板及掩膜板的制备方法

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