申请/专利权人：中国电子科技集团公司第四十八研究所

申请日：2022-07-14

公开（公告）日：2024-04-26

公开（公告）号：CN115161766B

主分类号：C30B25/12

分类号：C30B25/12;C30B25/16;C30B29/06

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.26#授权;2022.10.28#实质审查的生效;2022.10.11#公开

摘要：本发明公开了一种硅外延设备的石墨基座旋转结构及石墨基座水平调节方法，石墨基座旋转结构包括：反应腔室、石英轴、石墨基座、激光传感器、密封组件、旋转基座组件和驱动组件；反应腔室的上方设有用于监测石墨基座的运行状态的激光传感器；石英轴的顶端与石墨基座连接，底端固定套设旋转基座组件，旋转基座组件与驱动组件连接，以带动石墨基座在反应腔室内旋转；反应腔室与旋转基座组件的连接处设有密封组件，密封组件包括波纹管；反应腔室设有向下凸出的进气部分，石英轴与反应腔室的进气部分的内壁之间形成进气通道，波纹管的进气口与进气通道连通。本发明具有密封性能好、装调简易、能够实现石墨基座的水平检测和精准调节等优点。

主权项：1.一种硅外延设备的石墨基座旋转结构，其特征在于，包括：反应腔室（1）、石英轴（2）、石墨基座（3）、激光传感器（4）、密封组件（5）、旋转基座组件（6）和驱动组件（10）；所述反应腔室（1）的上方设有与PLC控制系统连接的激光传感器（4），所述激光传感器（4）用于监测石墨基座（3）的运行状态；所述石英轴（2）的顶端与石墨基座（3）连接，石英轴（2）的底端固定套设用于旋转密封的旋转基座组件（6），所述旋转基座组件（6）与驱动组件（10）的输出端转动连接，在驱动组件（10）的驱动下，旋转基座组件（6）带动石英轴（2）转动，以实现石墨基座（3）在反应腔室（1）内旋转；所述反应腔室（1）与旋转基座组件（6）的连接处设有密封组件（5），所述密封组件（5）包括波纹管（51），所述波纹管（51）位于旋转基座组件（6）上方；所述反应腔室（1）设有向下凸出的进气部分，所述石英轴（2）与反应腔室（1）的进气部分的内壁之间形成进气通道（50），所述波纹管（51）的进气口与进气通道（50）连通；所述密封组件（5）还包括密封块（52）和第一密封圈（53）；所述密封块（52）环绕在反应腔室（1）外周，密封块（52）顶部的斜槽与反应腔室（1）外壁之间设有第一密封圈（53），反应腔室（1）外壁、密封块（52）底部和波纹管（51）顶部的斜槽之间也设有第一密封圈（53），通过波纹管（51）和密封块（52）对第一密封圈（53）进行挤压，以实现密封组件（5）与反应腔室（1）密封连接；所述旋转基座组件（6）包括轴套（64）和第二密封圈（65）；所述轴套（64）套设在石英轴（2）的底端，且轴套（64）与石英轴（2）外壁之间设有第二密封圈（65），以实现轴套（64）与石英轴（2）密封连接；所述旋转基座组件（6）还包括范塞封（62）和密封套（63）；所述轴套（64）外侧设有密封套（63），所述密封套（63）与轴套（64）外壁之间也设有第二密封圈（65）；所述密封套（63）与波纹管（51）之间设有范塞封（62），以实现轴套（64）与波纹管（51）密封连接。

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